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高分子被覆した低誘電正接シリカゾル及びその製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20220110580
申请日：
2022-07-08
公开(公告)号：
JP2024008588A
公开(公告)日：
2024-01-19
发明(设计)人：
EBARA KAZUYA
NAKADA TAKESHI
TADOKORO SHINSUKE
申请人：
NISSAN CHEMICAL CORP
申请人地址：
IPC主分类号：
C08K9/06
IPC分类号：
C09C3/10
C08L101/00
C09D17/00
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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