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研磨用分散液[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220205563
申请日
:
2022-12-22
公开(公告)号
:
JP2024089973A
公开(公告)日
:
2024-07-04
发明(设计)人
:
SUZUKI KENICHI
KANESHIMA MINAKO
ICHIKAWA MUNEKI
申请人
:
SHIN ETSU POLYMER CO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09K3/14
IPC分类号
:
B24B37/00
C09G1/02
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
研磨用组合物、研磨用组合物的浓缩液以及研磨方法
[P].
向井贵俊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
福吉米株式会社
福吉米株式会社
向井贵俊
;
沼田圭祐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
福吉米株式会社
福吉米株式会社
沼田圭祐
;
村濑雄彦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
福吉米株式会社
福吉米株式会社
村濑雄彦
;
浅田真希
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
福吉米株式会社
福吉米株式会社
浅田真希
;
土屋公亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
福吉米株式会社
福吉米株式会社
土屋公亮
.
日本专利
:CN120858439A
,2025-10-28
[2]
研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025150569A
,2025-10-09
[3]
シリコン基板研磨用研磨液[ja]
[P].
日本专利
:JP2025164047A
,2025-10-30
[4]
研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017069253A1
,2018-08-09
[5]
研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017069202A1
,2018-08-09
[6]
研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018124230A1
,2019-10-31
[7]
研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020100563A1
,2021-09-30
[8]
研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018180479A1
,2020-05-14
[9]
研磨用组合物
[P].
古本有加里
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
福吉米株式会社
福吉米株式会社
古本有加里
;
市坪大辉
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
福吉米株式会社
福吉米株式会社
市坪大辉
.
日本专利
:CN119654704A
,2025-03-18
[10]
研磨用组合物
[P].
山崎智基
论文数:
0
引用数:
0
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山崎智基
;
牧野弘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
牧野弘
.
中国专利
:CN111512419A
,2020-08-07
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