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圧電積層体、圧電積層ウエハ、及び圧電積層体の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230047182
申请日
:
2023-03-23
公开(公告)号
:
JP2024136170A
公开(公告)日
:
2024-10-04
发明(设计)人
:
KURODA TOSHIAKI
SHIBATA KENJI
WATANABE KAZUTOSHI
申请人
:
SUMITOMO CHEMICAL CO
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H10N30/853
IPC分类号
:
C23C14/08
C23C14/58
H10N30/076
H10N30/082
H10N30/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
圧電積層体、圧電積層体の製造方法、及び圧電素子[ja]
[P].
KURODA TOSHIAKI
论文数:
0
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0
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0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
KURODA TOSHIAKI
;
SHIBATA KENJI
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机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
SHIBATA KENJI
;
WATANABE KAZUTOSHI
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0
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机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
WATANABE KAZUTOSHI
.
日本专利
:JP2024141259A
,2024-10-10
[2]
圧電積層体及び圧電素子[ja]
[P].
KOBAYASHI HIROYUKI
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0
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0
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0
机构:
FUJIFILM CORP
FUJIFILM CORP
KOBAYASHI HIROYUKI
;
NAKAMURA SEIGO
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0
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0
机构:
FUJIFILM CORP
FUJIFILM CORP
NAKAMURA SEIGO
.
日本专利
:JP2025042311A
,2025-03-27
[3]
圧電積層体及び圧電素子[ja]
[P].
KOBAYASHI HIROYUKI
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机构:
FUJIFILM CORP
FUJIFILM CORP
KOBAYASHI HIROYUKI
;
NAKAMURA SEIGO
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机构:
FUJIFILM CORP
FUJIFILM CORP
NAKAMURA SEIGO
.
日本专利
:JP2025042312A
,2025-03-27
[4]
圧電積層体、圧電積層体の製造方法および圧電デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JP2022084768A
,2022-06-07
[5]
圧電積層体及び圧電素子[ja]
[P].
KOBAYASHI HIROYUKI
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机构:
FUJIFILM CORP
FUJIFILM CORP
KOBAYASHI HIROYUKI
;
NAKAMURA SEIGO
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机构:
FUJIFILM CORP
FUJIFILM CORP
NAKAMURA SEIGO
.
日本专利
:JP2024010990A
,2024-01-25
[6]
圧電膜を有する積層基板、積層基板の製造方法、及び圧電素子[ja]
[P].
TANAKA YASUNORI
论文数:
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机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
TANAKA YASUNORI
;
SHIBATA KENJI
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机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
SHIBATA KENJI
;
KURODA TOSHIAKI
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机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
KURODA TOSHIAKI
;
WATANABE KAZUTOSHI
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机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
WATANABE KAZUTOSHI
.
日本专利
:JP2025103513A
,2025-07-09
[7]
積層体及び積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016132681A1
,2017-11-24
[8]
積層体及び積層体の製造方法[ja]
[P].
YAMAMOTO HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
AGC INC
YAMAMOTO HIROSHI
;
AKAO YASUHIKO
论文数:
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引用数:
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0
机构:
AGC INC
AKAO YASUHIKO
;
FUJIWARA AKIO
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机构:
AGC INC
FUJIWARA AKIO
;
IMASHIRO NOBUHIKO
论文数:
0
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机构:
AGC INC
IMASHIRO NOBUHIKO
.
日本专利
:JP2022164734A
,2022-10-27
[9]
積層体及び積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020129297A1
,2021-02-15
[10]
積層型圧電素子及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008068975A1
,2010-03-18
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