圧電積層体、圧電積層ウエハ、及び圧電積層体の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20230047182
申请日
2023-03-23
公开(公告)号
JP2024136170A
公开(公告)日
2024-10-04
发明(设计)人
KURODA TOSHIAKI SHIBATA KENJI WATANABE KAZUTOSHI
申请人
SUMITOMO CHEMICAL CO
申请人地址
IPC主分类号
H10N30/853
IPC分类号
C23C14/08 C23C14/58 H10N30/076 H10N30/082 H10N30/20
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
圧電積層体、圧電積層体の製造方法、及び圧電素子[ja] [P]. 
KURODA TOSHIAKI ;
SHIBATA KENJI ;
WATANABE KAZUTOSHI .
日本专利 :JP2024141259A ,2024-10-10
[2]
圧電積層体及び圧電素子[ja] [P]. 
KOBAYASHI HIROYUKI ;
NAKAMURA SEIGO .
日本专利 :JP2025042311A ,2025-03-27
[3]
圧電積層体及び圧電素子[ja] [P]. 
KOBAYASHI HIROYUKI ;
NAKAMURA SEIGO .
日本专利 :JP2025042312A ,2025-03-27
[5]
圧電積層体及び圧電素子[ja] [P]. 
KOBAYASHI HIROYUKI ;
NAKAMURA SEIGO .
日本专利 :JP2024010990A ,2024-01-25
[6]
圧電膜を有する積層基板、積層基板の製造方法、及び圧電素子[ja] [P]. 
TANAKA YASUNORI ;
SHIBATA KENJI ;
KURODA TOSHIAKI ;
WATANABE KAZUTOSHI .
日本专利 :JP2025103513A ,2025-07-09
[7]
積層体及び積層体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016132681A1 ,2017-11-24
[8]
積層体及び積層体の製造方法[ja] [P]. 
YAMAMOTO HIROSHI ;
AKAO YASUHIKO ;
FUJIWARA AKIO ;
IMASHIRO NOBUHIKO .
日本专利 :JP2022164734A ,2022-10-27
[9]
積層体及び積層体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020129297A1 ,2021-02-15
[10]
積層型圧電素子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008068975A1 ,2010-03-18