酸化スズ膜用エッチング液[ja]

被引：0

申请号：

JP20220158140

申请日：

2022-09-30

公开(公告)号：

JP2024051805A

公开(公告)日：

2024-04-11

发明(设计)人：

SENOO SHUNSAKU SHIRAHAMA YUJI

申请人：

PANASONIC IP MAN CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/308

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

シリコンエッチング液[ja] [P].

日本专利 :JP2025157629A ,2025-10-16

[2]

シリコンエッチング液[ja] [P].

日本专利 :JP2025157627A ,2025-10-16

[3]

シリコンエッチング液[ja] [P].

NORO KOSUKE ;

HITOMI TATSUYA ;

SEIKE YOSHIKI ;

OKIMURA KOSHIRO .

日本专利 :JP2024034694A ,2024-03-13

[4]

シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009044647A1 ,2011-02-03

[5]

エッチング方法[ja] [P].

KOGA OSAMU .

日本专利 :JP2024017128A ,2024-02-08

[6]

熱可塑性樹脂用エッチング液及びエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022144653A ,2022-10-03

[7]

酸化アルミニウム膜用のエッチング液と、当該エッチング液を用いた薄膜半導体装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014171054A1 ,2017-02-16

[8]

選択的金属／金属酸化物エッチングプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2017505990A ,2017-02-23

[9]

エッチング液組成物、多層膜のエッチング方法、並びに表示装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017537222A ,2017-12-14

[10]

シリコンエッチング液およびエッチング方法並びに微小電気機械素子[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014112430A1 ,2017-01-19

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