フェロセンに基づく新たな非対称のリガンドであって、嵩高いジ（アダマンチル）ホスフィノのモチーフを有するリガンドならびにその金属触媒[ja]

被引：0

申请号：

JP20230558554

申请日：

2022-03-25

公开(公告)号：

JP2024513767A

公开(公告)日：

2024-03-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F9/50

IPC分类号：

B01J31/22 C07F15/00 C07F15/02 C07F19/00

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共 38 条

[1]

フェロセンに基づく新たな非対称のリガンドであって、嵩高いジ（アダマンチル）ホスフィノのモチーフを有するリガンドならびにその金属触媒[ja] [P].

日本专利 :JP7660700B2 ,2025-04-11

[2]

水素化および脱水素法のためのアミノ−ホスフィンリガンドに基づく錯体触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2016520512A ,2016-07-14

[3]

異なる置換フランのメチル基にアルデヒドを選択的還元する金属触媒フリーおよび水素ガスフリーの手法[ja] [P].

日本专利 :JP2023534088A ,2023-08-08

[4]

金属用のリガンドおよびそれらに基づいて改善された金属触媒法[ja] [P].

日本专利 :JP5758844B2 ,2015-08-05

[5]

有機第三級ジホスフィンを有機第三級ジホスフィンモノオキサイドに選択的に酸化するための触媒プロセス[ja] [P].

HASEGAWA JUNICHI ;

MIYAGAWA TAKASHI .

日本专利 :JP2024065526A ,2024-05-15

[6]

金属トリフルオロアセテートを使用してトリフルオロヨードメタンを生成するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2022524500A ,2022-05-06

[7]

エッチングフロント金属触媒を用いる高アスペクト比メモリのプロファイル最適化[ja] [P].

日本专利 :JP7787894B2 ,2025-12-17

[8]

エッチングフロント金属触媒を用いる高アスペクト比メモリのプロファイル最適化[ja] [P].

日本专利 :JP2024504118A ,2024-01-30

[9]

トリフルオロ酢酸を使用してトリフルオロヨードメタンを生成するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2022524026A ,2022-04-27

[10]

ポリ（トリメチレンフランジカルボキシレート）を調製するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2019530787A ,2019-10-24

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