分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220083995

申请日：

2022-05-23

公开(公告)号：

JP2023172297A

公开(公告)日：

2023-12-06

发明(设计)人：

TOMIOKA YUKI UNO KAZUHIDE MARUYAMA TAKASHI

申请人：

TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

B32B7/06

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

分離機能層、分離膜、及び分離機能層の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025137156A ,2025-09-19

[2]

光照射剥離用接着剤組成物及び積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020105586A1 ,2021-10-07

[3]

感放射線組成物、積層体及びその製造方法並びに電子部品[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005096100A1 ,2008-02-21

[4]

感放射線組成物、積層体及びその製造方法並びに電子部品[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005098539A1 ,2008-02-28

[5]

膜形成用組成物、積層体、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017217513A1 ,2019-02-28

[6]

気体分離膜活性層形成用の組成物の製造方法、これによって製造された気体分離膜活性層形成用の組成物、気体分離膜の製造方法および気体分離膜[ja] [P].

日本专利 :JP2020531259A ,2020-11-05

[7]

積層体、接着層付き積層体、基材層付き光学積層体、光学積層体、及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6727390B1 ,2020-07-22

[8]

積層体及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022103620A ,2022-07-08

[9]

積層体、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017110780A1 ,2017-12-21

[10]

接着剤層形成用組成物、積層体、接着剤層の製造方法、積層体の製造方法および積層体の処理方法[ja] [P].

SATO MEGUMI ;

UCHIDA KAZUYUKI ;

NAMEKAWA TAKAHIRA ;

TAKANO MASAOMI .

日本专利 :JP2024094262A ,2024-07-09

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