気体分離膜活性層形成用の組成物の製造方法、これによって製造された気体分離膜活性層形成用の組成物、気体分離膜の製造方法および気体分離膜[ja]

被引：0

申请号：

JP20200509012

申请日：

2018-11-30

公开(公告)号：

JP2020531259A

公开(公告)日：

2020-11-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01D71/10

IPC分类号：

B01D69/02 B01D69/10 B01D69/12 B01D71/26 B01D71/30 B01D71/34 B01D71/36 B01D71/46 B01D71/50 B01D71/52 B01D71/64 B01D71/68

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法律状态：

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共 50 条

[1]

気体分離膜活性層形成用の組成物の製造方法、これによって製造された気体分離膜活性層形成用の組成物、気体分離膜の製造方法および気体分離膜[ja] [P].

日本专利 :JP6996049B2 ,2022-01-17

[2]

気体分離膜および気体分離膜の製造方法[ja] [P].

HORIUCHI YUTA ;

MIYAZAWA HIROSHI ;

MATSUMOTO YASUTAKA ;

IWAKAMI OSHI ;

TAKATSU NAOKI .

日本专利 :JP2024060788A ,2024-05-07

[3]

気体分離膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017179738A1 ,2019-03-22

[4]

分離膜の製造方法及び分離膜[ja] [P].

SASAHARA KENJI ;

SAKAKIBARA YASUYUKI .

日本专利 :JP2024050311A ,2024-04-10

[5]

分離機能層、分離膜、及び分離機能層の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025137156A ,2025-09-19

[6]

分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法[ja] [P].

TOMIOKA YUKI ;

UNO KAZUHIDE ;

MARUYAMA TAKASHI .

日本专利 :JP2023172297A ,2023-12-06

[7]

分離膜、及びその製造方法[ja] [P].

MURAKAMI SHIMPEI ;

XIA IKUCHIN ;

NAKANO TAKESHI .

日本专利 :JP2024136141A ,2024-10-04

[8]

ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、ガス分離方法、ガス分離膜用組成物及びガス分離膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017179393A1 ,2019-01-31

[9]

ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、ガス分離方法、ガス分離膜用組成物及びガス分離膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017179396A1 ,2019-02-28

[10]

膜形成用組成物、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017217474A1 ,2019-02-14

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