気体分離膜および気体分離膜の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220168297

申请日：

2022-10-20

公开(公告)号：

JP2024060788A

公开(公告)日：

2024-05-07

发明(设计)人：

HORIUCHI YUTA MIYAZAWA HIROSHI MATSUMOTO YASUTAKA IWAKAMI OSHI TAKATSU NAOKI

申请人：

SEIKO EPSON CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

B01D69/00

IPC分类号：

B01D69/10 B01D69/12 B01D71/10 B01D71/48 B01D71/52 B01D71/70

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

気体分離膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017179738A1 ,2019-03-22

[2]

気体分離膜[ja] [P].

HORIUCHI YUTA ;

MIYAZAWA HIROSHI ;

MATSUMOTO YASUTAKA ;

IWAKAMI OSHI .

日本专利 :JP2024060738A ,2024-05-07

[3]

気体分離膜活性層形成用の組成物の製造方法、これによって製造された気体分離膜活性層形成用の組成物、気体分離膜の製造方法および気体分離膜[ja] [P].

日本专利 :JP2020531259A ,2020-11-05

[4]

分離膜の製造方法及び分離膜[ja] [P].

SASAHARA KENJI ;

SAKAKIBARA YASUYUKI .

日本专利 :JP2024050311A ,2024-04-10

[5]

分離機能層、分離膜、及び分離機能層の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025137156A ,2025-09-19

[6]

分離膜、及びその製造方法[ja] [P].

MURAKAMI SHIMPEI ;

XIA IKUCHIN ;

NAKANO TAKESHI .

日本专利 :JP2024136141A ,2024-10-04

[7]

分離膜[ja] [P].

日本专利 :JP2022096894A ,2022-06-30

[8]

ガス分離膜の製造方法、ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017122530A1 ,2018-09-27

[9]

ガス分離膜、ガス分離膜の製造方法、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017122486A1 ,2018-09-20

[10]

炭素膜の製造方法、炭素膜、及び分離装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011004660A1 ,2012-12-20

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