ジヒドロアズレニル配位子を有する貴金属錯体及びその使用[ja]

被引：0

申请号：

JP20230549649

申请日：

2022-02-04

公开(公告)号：

JP2024506721A

公开(公告)日：

2024-02-14

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F1/02

IPC分类号：

B01J31/22 C07F15/00

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共 50 条

[1]

４－Ｈ、６－Ｈ、又は８－Ｈジヒドロアズレニル配位子を有する金属錯体及びその使用[ja] [P].

日本专利 :JP2024507790A ,2024-02-21

[2]

環式アミジン配位子を有する金属錯体[ja] [P].

日本专利 :JP2017509595A ,2017-04-06

[3]

ケージ状配位子を有する多核金属錯体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005095408A1 ,2008-02-21

[4]

トリアゼニド配位子を有する金属錯体及び気相から金属を堆積させるためのその使用[ja] [P].

日本专利 :JP2021507102A ,2021-02-22

[5]

キレート化ジアニオン性配位子を有する白金（ＩＩ）ジエン錯体およびヒドロシリル化反応におけるその使用[ja] [P].

日本专利 :JP2018528204A ,2018-09-27

[6]

ＣＶＤ及びＡＬＤに使用するためのリンベース配位子を有する金属カルボニル錯体[ja] [P].

日本专利 :JP2025510329A ,2025-04-14

[7]

ピコリナート基を有する大環状配位子、その錯体、及びその医学的使用[ja] [P].

日本专利 :JP2019508482A ,2019-03-28

[8]

アザ－ベンゾ縮合配位子を有するイリジウム錯体[ja] [P].

BIN MA ;

XIA CHUANJUN ;

HARVEY WENDT ;

SUMAN LAYEK ;

BEERS SCOTT ;

EDWARD BARRON ;

ALAN DEANGELIS ;

WALTER YEAGER ;

CHEON KWANG-OHK ;

MICHAEL S WEAVER ;

ZENG LICHANG ;

VADIM ADAMOVICH .

日本专利 :JP2022180529A ,2022-12-06

[9]

３座アミノジカルベン配位子を有する金属錯体及びそれを用いた水素化還元方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014203963A1 ,2017-02-23

[10]

アミジン及びインドールと縮環したシクロペンタジエニル配位子を含む金属錯体[ja] [P].

日本专利 :JP2021521225A ,2021-08-26

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