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フラットパネルディスプレイ用ブランクマスク及びフォトマスク[ja]

被引：0
申请号：
JP20220199299
申请日：
2022-12-14
公开(公告)号：
JP7446400B1
公开(公告)日：
2024-03-08
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F1/52
IPC分类号：
C23C14/06 G03F1/38 G03F1/40 G03F1/58
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
フラットパネルディスプレイ用ブランクマスク及びフォトマスク[ja] [P]. 
KIM DONG-GEUN ;
KANG DONG SHIK ;
GONG JONG GYU ;
LEE JONG MIN .
日本专利 :JP2024068043A ,2024-05-17
[2]
フォトマスクブランク及びフォトマスク[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008139904A1 ,2010-07-29
[3]
マスクブランクス及びフォトマスク[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025134234A ,2025-09-17
[4]
フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6271803B1 ,2018-01-31
[5]
フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6368000B1 ,2018-08-01
[6]
マスクブランクスの製造方法及びマスクブランクス、フォトマスク[ja] [P]. 
MOCHIZUKI SEI ;
SHIOZAKI EIJI ;
SEKINE MASAHIRO ;
AZUMA SAYURI ;
YAMADA SHINGO ;
MORIYAMA KUMIKO .
日本专利 :JP2024006247A ,2024-01-17
[7]
フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P]. 
INAZUKI SADAOMI ;
SASAMOTO KOHEI ;
MATSUHASHI NAOKI .
日本专利 :JP2022093557A ,2022-06-23
[8]
フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025174339A ,2025-11-28
[9]
ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6259508B1 ,2018-01-10
[10]
ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6259509B1 ,2018-01-10
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