マスクブランクス及びフォトマスク[ja]

被引：0

申请号：

JP20240032008

申请日：

2024-03-04

公开(公告)号：

JP2025134234A

公开(公告)日：

2025-09-17

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F1/48

IPC分类号：

C23C14/04 G03F1/46 G03F1/54

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトマスクブランク及びフォトマスク[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008139904A1 ,2010-07-29

[2]

マスクブランクスの製造方法及びマスクブランクス、フォトマスク[ja] [P].

MOCHIZUKI SEI ;

SHIOZAKI EIJI ;

SEKINE MASAHIRO ;

AZUMA SAYURI ;

YAMADA SHINGO ;

MORIYAMA KUMIKO .

日本专利 :JP2024006247A ,2024-01-17

[3]

フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6271803B1 ,2018-01-31

[4]

フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6368000B1 ,2018-08-01

[5]

フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

INAZUKI SADAOMI ;

SASAMOTO KOHEI ;

MATSUHASHI NAOKI .

日本专利 :JP2022093557A ,2022-06-23

[6]

フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025174339A ,2025-11-28

[7]

マスクブランクス、位相シフトマスク、ハーフトーンマスク、マスクブランクスの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019003486A1 ,2019-06-27

[8]

ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6259508B1 ,2018-01-10

[9]

ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6259509B1 ,2018-01-10

[10]

マスクブランクス、マスクブランクスの製造方法及びマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009084516A1 ,2011-05-19

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