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マスクブランクス、マスクブランクスの製造方法及びマスクの製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20090518669
申请日：
2008-12-22
公开(公告)号：
JPWO2009084516A1
公开(公告)日：
2011-05-19
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F1/00
IPC分类号：
G03F7/26 G03F7/40
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
マスクブランクスの製造方法及びマスクブランクス、フォトマスク[ja] [P]. 
MOCHIZUKI SEI ;
SHIOZAKI EIJI ;
SEKINE MASAHIRO ;
AZUMA SAYURI ;
YAMADA SHINGO ;
MORIYAMA KUMIKO .
日本专利 :JP2024006247A ,2024-01-17
[2]
マスクブランクス、位相シフトマスク、ハーフトーンマスク、マスクブランクスの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019003486A1 ,2019-06-27
[3]
マスクブランクス、位相シフトマスク及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5686216B1 ,2015-03-18
[4]
ブラックマトリクスの製造方法及びブラックマトリクス[ja] [P]. 
AKIMOTO DAICHI .
日本专利 :JP2024074455A ,2024-05-31
[5]
マスクブランクス及びフォトマスク[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025134234A ,2025-09-17
[6]
フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P]. 
INAZUKI SADAOMI ;
SASAMOTO KOHEI ;
MATSUHASHI NAOKI .
日本专利 :JP2022093557A ,2022-06-23
[7]
フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025174339A ,2025-11-28
[8]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022189860A ,2022-12-22
[9]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022136193A ,2022-09-15
[10]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法[ja] [P]. 
TANABE MASARU ;
ASAKAWA TAKASHI ;
YASUMORI JUNICHI ;
HANAOKA OSAMU .
日本专利 :JP2022089903A ,2022-06-16
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