ブラックマトリクスの製造方法及びブラックマトリクス[ja]

被引：0

申请号：

JP20220185593

申请日：

2022-11-21

公开(公告)号：

JP2024074455A

公开(公告)日：

2024-05-31

发明(设计)人：

AKIMOTO DAICHI

申请人：

TOPPAN HOLDINGS INC

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G02B5/20 G03F7/20

代理机构：

代理人：

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国省代码：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ブラックマトリクス基板[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014136738A1 ,2017-02-09

[2]

ブラックマトリクス基板、及びブラックマトリクス基板を備えた表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020115837A1 ,2021-11-04

[3]

マスクブランクスの製造方法及びマスクブランクス、フォトマスク[ja] [P].

MOCHIZUKI SEI ;

SHIOZAKI EIJI ;

SEKINE MASAHIRO ;

AZUMA SAYURI ;

YAMADA SHINGO ;

MORIYAMA KUMIKO .

日本专利 :JP2024006247A ,2024-01-17

[4]

ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P].

KAWADA KEI ;

IMAYOSHI KOJI ;

SHIOMITSU KAZUHIKO ;

GOTO KEISUKE .

日本专利 :JP2023169580A ,2023-11-30

[5]

ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P].

日本专利 :JP6583569B1 ,2019-10-02

[6]

ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020003364A1 ,2020-07-09

[7]

マスクブランクス、マスクブランクスの製造方法及びマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009084516A1 ,2011-05-19

[8]

マスクブランクス、位相シフトマスク、ハーフトーンマスク、マスクブランクスの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019003486A1 ,2019-06-27

[9]

マスクブランクス及びフォトマスク[ja] [P].

日本专利 :JP2025134234A ,2025-09-17

[10]

フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

INAZUKI SADAOMI ;

SASAMOTO KOHEI ;

MATSUHASHI NAOKI .

日本专利 :JP2022093557A ,2022-06-23

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