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ブラックマトリクス基板、及びブラックマトリクス基板を備えた表示装置[ja]

被引：0
申请号：
JP20200558729
申请日：
2018-12-05
公开(公告)号：
JPWO2020115837A1
公开(公告)日：
2021-11-04
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G09F9/30
IPC分类号：
G02B5/20 G02F1/1333 H01L27/32 H01L51/50 H05B33/02 H05B33/12
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
ブラックマトリクス基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014136738A1 ,2017-02-09
[2]
ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P]. 
KAWADA KEI ;
IMAYOSHI KOJI ;
SHIOMITSU KAZUHIKO ;
GOTO KEISUKE .
日本专利 :JP2023169580A ,2023-11-30
[3]
ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6583569B1 ,2019-10-02
[4]
ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020003364A1 ,2020-07-09
[5]
ブラックマトリクスの製造方法及びブラックマトリクス[ja] [P]. 
AKIMOTO DAICHI .
日本专利 :JP2024074455A ,2024-05-31
[6]
マスクブランクス及びフォトマスク[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025134234A ,2025-09-17
[7]
マスクブランクスの製造方法及びマスクブランクス、フォトマスク[ja] [P]. 
MOCHIZUKI SEI ;
SHIOZAKI EIJI ;
SEKINE MASAHIRO ;
AZUMA SAYURI ;
YAMADA SHINGO ;
MORIYAMA KUMIKO .
日本专利 :JP2024006247A ,2024-01-17
[8]
樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014129320A1 ,2017-02-02
[9]
フォトマスクブランク及びフォトマスク[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008139904A1 ,2010-07-29
[10]
マスクブランクス、マスクブランクスの製造方法及びマスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009084516A1 ,2011-05-19
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