ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20180554123

申请日：

2018-06-26

公开(公告)号：

JPWO2020003364A1

公开(公告)日：

2020-07-09

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G06F3/044

IPC分类号：

G06F3/041 G09F9/30

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P].

日本专利 :JP6583569B1 ,2019-10-02

[2]

ブラックマトリクス基板及び表示装置[ja] [P].

KAWADA KEI ;

IMAYOSHI KOJI ;

SHIOMITSU KAZUHIKO ;

GOTO KEISUKE .

日本专利 :JP2023169580A ,2023-11-30

[3]

ブラックマトリクス基板、及びブラックマトリクス基板を備えた表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020115837A1 ,2021-11-04

[4]

ブラックマトリクス基板[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014136738A1 ,2017-02-09

[5]

ブラックマトリクスの製造方法及びブラックマトリクス[ja] [P].

AKIMOTO DAICHI .

日本专利 :JP2024074455A ,2024-05-31

[6]

アクティブマトリクス基板、表示装置、およびアクティブマトリクス基板の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012133103A1 ,2014-07-28

[7]

アクティブマトリクス基板、表示装置およびアクティブマトリクス基板の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025176590A ,2025-12-04

[8]

アクティブマトリクス基板、表示装置およびアクティブマトリクス基板の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025138348A ,2025-09-25

[9]

アクティブマトリクス基板及び表示パネル[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011142064A1 ,2013-07-22

[10]

マスクブランクス及びフォトマスク[ja] [P].

日本专利 :JP2025134234A ,2025-09-17

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