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研磨装置和研磨方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411234357.6
申请日
:
2021-03-05
公开(公告)号
:
CN118905916A
公开(公告)日
:
2024-11-08
发明(设计)人
:
森浦拓也
外崎宏
曾根忠一
伊藤雅佳
小畠严贵
松尾尚典
寺田哲也
申请人
:
株式会社荏原制作所
申请人地址
:
日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
IPC主分类号
:
B24B37/30
IPC分类号
:
B24B57/02
B24B37/04
B24B41/02
B24B37/10
H01L21/306
B24B37/34
代理机构
:
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人
:
张丽颖
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-26
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/30申请日:20210305
2024-11-08
公开
公开
共 50 条
[1]
研磨装置、处理系统和研磨方法
[P].
森浦拓也
论文数:
0
引用数:
0
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森浦拓也
;
外崎宏
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外崎宏
;
曾根忠一
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曾根忠一
;
伊藤雅佳
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伊藤雅佳
;
小畠严贵
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小畠严贵
;
松尾尚典
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松尾尚典
;
寺田哲也
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寺田哲也
.
中国专利
:CN113352229A
,2021-09-07
[2]
研磨装置和研磨方法
[P].
伊藤雅佳
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伊藤雅佳
;
松尾尚典
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松尾尚典
;
小畠严贵
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小畠严贵
;
森浦拓也
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森浦拓也
.
中国专利
:CN113635215A
,2021-11-12
[3]
研磨装置及研磨方法
[P].
伊藤雅佳
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伊藤雅佳
;
小畠严贵
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小畠严贵
.
中国专利
:CN115592558A
,2023-01-13
[4]
基板研磨装置和基板研磨方法
[P].
藤本拓矢
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藤本拓矢
;
高田畅行
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高田畅行
.
中国专利
:CN115139214A
,2022-10-04
[5]
研磨装置、研磨方法和研磨头
[P].
内山圭介
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
内山圭介
;
小寺健治
论文数:
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
小寺健治
.
日本专利
:CN120606325A
,2025-09-09
[6]
研磨装置和研磨方法
[P].
关正也
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关正也
;
户川哲二
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户川哲二
;
中西正行
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中西正行
;
松田尚起
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松田尚起
;
吉田笃史
论文数:
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吉田笃史
.
中国专利
:CN102699794B
,2012-10-03
[7]
研磨方法和研磨装置
[P].
大野胜俊
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大野胜俊
;
松尾尚典
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松尾尚典
.
中国专利
:CN102601719A
,2012-07-25
[8]
研磨盘和研磨装置
[P].
顾浩
论文数:
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
顾浩
;
杨俊男
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
杨俊男
;
闫晓晖
论文数:
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
闫晓晖
.
中国专利
:CN118700019A
,2024-09-27
[9]
研磨头和研磨装置
[P].
冯惠敏
论文数:
0
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冯惠敏
.
中国专利
:CN202428311U
,2012-09-12
[10]
研磨装置和研磨方法
[P].
守屋宗幸
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守屋宗幸
;
铃木孝雅
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铃木孝雅
.
中国专利
:CN113997193A
,2022-02-01
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