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プラズマ処理用電極誘電体ノズル[ja]

被引：0
申请号：
JP20240512981
申请日：
2022-08-29
公开(公告)号：
JP2024532887A
公开(公告)日：
2024-09-10
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/3065
IPC分类号：
H01L21/304
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011102083A1 ,2013-06-17
[2]
誘電体バリア放電プラズマリアクタ[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024522100A ,2024-06-11
[3]
プラズマ耐性が向上した誘電性プラズマチャンバを備えたプラズマ源[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021530616A ,2021-11-11
[4]
プラズマ処理装置及び方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011142125A1 ,2013-07-22
[5]
プラズマ発生体、プラズマ発生体を用いた放電装置および反応装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009091065A1 ,2011-05-26
[6]
プラズマ照射方法、およびプラズマ照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015181945A1 ,2017-04-20
[7]
誘電半導体膜を有する静電レンズ[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016522973A ,2016-08-04
[8]
誘電体薄膜堆積のための変換器結合プラズマ源設計[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024530452A ,2024-08-21
[9]
基板処理チャンバの漂遊プラズマ防止装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022533584A ,2022-07-25
[10]
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の内部部材ならびに当該内部部材の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020208801A1 ,2021-05-06
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