一种核壳结构磨料抛光液、制备方法及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410848326.3

申请日：

2024-06-27

公开(公告)号：

CN118852987A

公开(公告)日：

2024-10-29

发明(设计)人：

曹春张振宇孟凡宁周红秀石春景冯俊元童丁毅

申请人：

杭州电子科技大学

申请人地址：

310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

B24B1/00 B01J31/22 B01J35/39 B01J35/50

代理机构：

大连东方专利代理有限责任公司 21212

代理人：

周媛媛;李馨

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

浙江省杭州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-15	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20240627
2024-10-29	公开	公开

共 50 条

[1]

一种多层核壳结构抛光磨料、抛光液、制备方法及应用 [P].

侯军 ;

李传强 ;

单晓倩 ;

马振坤 ;

王庆 .

中国专利 :CN118772843A ,2024-10-15

[2]

一种多层核壳结构抛光磨料、抛光液、制备方法及应用 [P].

侯军 ;

李传强 ;

单晓倩 ;

马振坤 ;

王庆 .

中国专利 :CN118772843B ,2024-12-10

[3]

一种核壳结构纳米磨料抛光液及其制备方法 [P].

孙韬 .

中国专利 :CN110862773B ,2020-03-06

[4]

一种用于碳化硅晶圆抛光的单层核壳结构抛光磨料、抛光液及制备方法和抛光方法 [P].

高尚 ;

董志刚 ;

郭嘉倪 ;

康仁科 ;

宋鑫 .

中国专利 :CN121108880A ,2025-12-12

[5]

核/壳型复合纳米磨料硅片抛光液 [P].

侯军 .

中国专利 :CN101974296A ,2011-02-16

[6]

大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法 [P].

潘国顺 ;

陈高攀 ;

罗桂海 ;

罗海梅 ;

周艳 ;

潘立焱 .

中国专利 :CN113004804B ,2021-06-22

[7]

核/壳型复合纳米磨料铜化学机械抛光液 [P].

侯军 .

中国专利 :CN101974297A ,2011-02-16

[8]

一种抛光液用磨粒及其制备方法、抛光液、衬底抛光方法 [P].

王丹 ;

母凤文 ;

谭向虎 ;

刘福超 ;

郭超 .

中国专利 :CN118725825A ,2024-10-01

[9]

一种抛光液及其制备方法 [P].

周群飞 ;

李强 .

中国专利 :CN109251681A ,2019-01-22

[10]

一种抛光液及其制备方法 [P].

王杰 ;

郇彦 .

中国专利 :CN109536040A ,2019-03-29

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