一种多层核壳结构抛光磨料、抛光液、制备方法及应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411271315.X

申请日：

2024-09-11

公开(公告)号：

CN118772843B

公开(公告)日：

2024-12-10

发明(设计)人：

侯军李传强单晓倩马振坤王庆

申请人：

江苏奥首材料科技有限公司

申请人地址：

215513 江苏省苏州市常熟市碧溪新区万和路39号

IPC主分类号：

C09K3/14

IPC分类号：

C09G1/02 H01L21/304

代理机构：

深圳云海专利代理事务所(特殊普通合伙) 44846

代理人：

王天桂

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-10	授权	授权
2024-10-15	公开	公开
2024-11-01	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09K 3/14申请日:20240911

共 50 条

[1]

一种多层核壳结构抛光磨料、抛光液、制备方法及应用 [P].

侯军 ;

李传强 ;

单晓倩 ;

马振坤 ;

王庆 .

中国专利 :CN118772843A ,2024-10-15

[2]

一种核壳结构磨料抛光液、制备方法及抛光方法 [P].

曹春 ;

张振宇 ;

孟凡宁 ;

周红秀 ;

石春景 ;

冯俊元 ;

童丁毅 .

中国专利 :CN118852987A ,2024-10-29

[3]

一种核壳结构纳米磨料抛光液及其制备方法 [P].

孙韬 .

中国专利 :CN110862773B ,2020-03-06

[4]

一种用于碳化硅晶圆抛光的单层核壳结构抛光磨料、抛光液及制备方法和抛光方法 [P].

高尚 ;

董志刚 ;

郭嘉倪 ;

康仁科 ;

宋鑫 .

中国专利 :CN121108880A ,2025-12-12

[5]

抛光液、制备方法、应用和抛光工艺 [P].

殷达 ;

关飞飞 ;

孙健 .

中国专利 :CN119775904A ,2025-04-08

[6]

一种微藻基抛光磨料及含有其的抛光液、其制备方法及用途 [P].

侯军 ;

李传强 ;

单晓倩 .

中国专利 :CN116656320B ,2025-06-17

[7]

核/壳型复合纳米磨料硅片抛光液 [P].

侯军 .

中国专利 :CN101974296A ,2011-02-16

[8]

抛光液及应用该抛光液对CdS晶片抛光的抛光方法 [P].

李晖 ;

徐永宽 ;

程红娟 .

中国专利 :CN102952467A ,2013-03-06

[9]

一种抛光液及其制备方法 [P].

王辰伟 ;

李星 ;

雷双双 ;

李仕权 ;

张俊华 .

中国专利 :CN119144236A ,2024-12-17

[10]

一种抛光液 [P].

蒋莉 ;

黎铭琦 .

中国专利 :CN102757731A ,2012-10-31

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