一种微藻基抛光磨料及含有其的抛光液、其制备方法及用途

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310567499.3

申请日：

2023-05-19

公开(公告)号：

CN116656320B

公开(公告)日：

2025-06-17

发明(设计)人：

侯军李传强单晓倩

申请人：

大连奥首科技有限公司

申请人地址：

116085 辽宁省大连市高新技术产业园区火炬路1号A座2层201-1号

IPC主分类号：

C09K3/14

IPC分类号：

C09G1/02

代理机构：

大连大工智讯专利代理事务所(特殊普通合伙) 21244

代理人：

崔雪

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

天津市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移IPC(主分类):C09K 3/14登记生效日:20250709变更事项:专利权人变更前权利人:大连奥首科技有限公司变更后权利人:浙江奥首材料科技有限公司变更事项:国家或地区变更前权利人:中国变更后权利人:中国变更事项:地址变更前权利人:116025 辽宁省大连市高新园区火炬路1号A座201-1变更后权利人:324012 浙江省衢州市杜鹃路36号
2025-06-17	授权	授权

共 50 条

[1]

一种多层核壳结构抛光磨料、抛光液、制备方法及应用 [P].

侯军 ;

李传强 ;

单晓倩 ;

马振坤 ;

王庆 .

中国专利 :CN118772843A ,2024-10-15

[2]

一种多层核壳结构抛光磨料、抛光液、制备方法及应用 [P].

侯军 ;

李传强 ;

单晓倩 ;

马振坤 ;

王庆 .

中国专利 :CN118772843B ,2024-12-10

[3]

一种基于微电解-芬顿氧化体系的抛光液、其制备方法及用途 [P].

侯军 ;

单晓倩 ;

李传强 .

中国专利 :CN115558427A ,2023-01-03

[4]

一种用于碳化硅晶圆抛光的单层核壳结构抛光磨料、抛光液及制备方法和抛光方法 [P].

高尚 ;

董志刚 ;

郭嘉倪 ;

康仁科 ;

宋鑫 .

中国专利 :CN121108880A ,2025-12-12

[5]

一种核壳结构磨料抛光液、制备方法及抛光方法 [P].

曹春 ;

张振宇 ;

孟凡宁 ;

周红秀 ;

石春景 ;

冯俊元 ;

童丁毅 .

中国专利 :CN118852987A ,2024-10-29

[6]

一种晶片抛光用抛光液及其制备方法 [P].

李加海 ;

梁则兵 .

中国专利 :CN115386297A ,2022-11-25

[7]

一种晶片抛光用抛光液及其制备方法 [P].

李加海 ;

梁则兵 .

中国专利 :CN115386297B ,2024-04-26

[8]

一种混合磨料、包含其的光学石英玻璃抛光液、制备方法及用途 [P].

侯军 ;

孙西 ;

李传强 .

中国专利 :CN115093829A ,2022-09-23

[9]

一种锆基复合抛光液及其制备方法 [P].

孙何 ;

梅燕 ;

闫建平 ;

徐中挺 .

中国专利 :CN113174205A ,2021-07-27

[10]

一种水基磁辅助抛光液、制备方法及磁流变抛光液 [P].

白杨 ;

邓伟杰 ;

薛栋林 ;

张学军 .

中国专利 :CN109536039A ,2019-03-29

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