干法刻蚀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310618522.7

申请日：

2023-05-29

公开(公告)号：

CN119038485A

公开(公告)日：

2024-11-29

发明(设计)人：

吴贤丰延宇豪邱山峰孙磊

申请人：

苏州山河光电科技有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道88号人工智能产业园内G1-802单元

IPC主分类号：

B81C1/00

IPC分类号：

B82Y40/00 G03F7/00

代理机构：

苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235

代理人：

唐飞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B81C 1/00申请日:20230529
2024-11-29	公开	公开

共 50 条

[1]

干法刻蚀机台及干法刻蚀方法 [P].

李国强 ;

衣新燕 .

中国专利 :CN117096067B ,2024-03-01

[2]

干法刻蚀机台及干法刻蚀方法 [P].

高鹏飞 ;

丁玎 .

中国专利 :CN109755159B ,2019-05-14

[3]

干法刻蚀方法 [P].

丁向前 ;

刘耀 ;

陈曦 ;

李梁梁 ;

白金超 ;

刘晓伟 .

中国专利 :CN103996621A ,2014-08-20

[4]

干法刻蚀方法 [P].

汪新学 ;

王伟军 .

中国专利 :CN102254812A ,2011-11-23

[5]

干法刻蚀方法 [P].

吴智勇 ;

邱华军 .

中国专利 :CN102693911A ,2012-09-26

[6]

干法刻蚀方法 [P].

吴智勇 ;

荆泉 ;

陈力钧 .

中国专利 :CN109727857B ,2019-05-07

[7]

干法刻蚀方法 [P].

崔红星 ;

代大全 ;

吕睿 ;

李大勇 .

中国专利 :CN101211751A ,2008-07-02

[8]

干法刻蚀射频放电增强方法和干法刻蚀设备 [P].

张杰 .

中国专利 :CN113394091A ,2021-09-14

[9]

干法刻蚀工艺方法 [P].

赵博超 .

中国专利 :CN112103167A ,2020-12-18

[10]

干法刻蚀设备 [P].

张正洋 ;

邓泽新 ;

黄伟东 ;

李建华 .

中国专利 :CN204834563U ,2015-12-02

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