干法刻蚀机台及干法刻蚀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811646355.2

申请日：

2018-12-29

公开(公告)号：

CN109755159B

公开(公告)日：

2019-05-14

发明(设计)人：

高鹏飞丁玎

申请人：

申请人地址：

430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01J3732

代理机构：

深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300

代理人：

黄威

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-14	公开	公开
2021-02-02	授权	授权
2019-06-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20181229

共 50 条

[1]

干法刻蚀机台及干法刻蚀方法 [P].

李国强 ;

衣新燕 .

中国专利 :CN117096067B ,2024-03-01

[2]

干法刻蚀方法 [P].

丁向前 ;

刘耀 ;

陈曦 ;

李梁梁 ;

白金超 ;

刘晓伟 .

中国专利 :CN103996621A ,2014-08-20

[3]

干法刻蚀方法 [P].

汪新学 ;

王伟军 .

中国专利 :CN102254812A ,2011-11-23

[4]

干法刻蚀方法 [P].

吴智勇 ;

邱华军 .

中国专利 :CN102693911A ,2012-09-26

[5]

干法刻蚀方法 [P].

吴贤丰 ;

延宇豪 ;

邱山峰 ;

孙磊 .

中国专利 :CN119038485A ,2024-11-29

[6]

干法刻蚀装置 [P].

高国浩 .

中国专利 :CN218123350U ,2022-12-23

[7]

干法刻蚀方法 [P].

吴智勇 ;

荆泉 ;

陈力钧 .

中国专利 :CN109727857B ,2019-05-07

[8]

干法刻蚀方法 [P].

崔红星 ;

代大全 ;

吕睿 ;

李大勇 .

中国专利 :CN101211751A ,2008-07-02

[9]

干法刻蚀装置 [P].

杨宏超 ;

金一诺 ;

张怀东 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN105304443A ,2016-02-03

[10]

干法刻蚀装置 [P].

单静静 ;

完颜俊雄 ;

豆海清 .

中国专利 :CN218101166U ,2022-12-20

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