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干法刻蚀装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410236042.5
申请日
:
2014-05-30
公开(公告)号
:
CN105304443A
公开(公告)日
:
2016-02-03
发明(设计)人
:
杨宏超
金一诺
张怀东
王坚
王晖
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区上海张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
H01L2167
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
张振军
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-01-12
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01J 37/32 申请公布日:20160203
共 50 条
[1]
干法刻蚀方法
[P].
崔红星
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崔红星
;
代大全
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代大全
;
吕睿
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吕睿
;
李大勇
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李大勇
.
中国专利
:CN101211751A
,2008-07-02
[2]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
高鹏飞
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高鹏飞
;
丁玎
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丁玎
.
中国专利
:CN109755159B
,2019-05-14
[3]
基板干法刻蚀装置
[P].
罗浩
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罗浩
;
张毅先
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张毅先
;
任思雨
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任思雨
;
苏君海
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苏君海
;
李建华
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李建华
.
中国专利
:CN108063082A
,2018-05-22
[4]
基板干法刻蚀装置
[P].
罗浩
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罗浩
;
张毅先
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张毅先
;
任思雨
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任思雨
;
苏君海
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苏君海
;
李建华
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李建华
.
中国专利
:CN108231520A
,2018-06-29
[5]
干法刻蚀装置
[P].
高国浩
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高国浩
.
中国专利
:CN218123350U
,2022-12-23
[6]
干法刻蚀装置
[P].
单静静
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单静静
;
完颜俊雄
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完颜俊雄
;
豆海清
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豆海清
.
中国专利
:CN218101166U
,2022-12-20
[7]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
李国强
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机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
李国强
;
衣新燕
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机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
衣新燕
.
中国专利
:CN117096067B
,2024-03-01
[8]
干法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘耀
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刘耀
;
陈曦
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陈曦
;
李梁梁
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李梁梁
;
白金超
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白金超
;
刘晓伟
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刘晓伟
.
中国专利
:CN103996621A
,2014-08-20
[9]
用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀设备
[P].
廖鹏宇
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廖鹏宇
;
蒋冬华
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蒋冬华
;
赵吾阳
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赵吾阳
;
姜龙
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姜龙
;
宋亮
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宋亮
;
谭超
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谭超
;
彭于航
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彭于航
;
谢贤虹
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谢贤虹
.
中国专利
:CN106935463A
,2017-07-07
[10]
干法刻蚀方法
[P].
汪新学
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汪新学
;
王伟军
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王伟军
.
中国专利
:CN102254812A
,2011-11-23
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