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基板干法刻蚀装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711490172.1
申请日
:
2017-12-29
公开(公告)号
:
CN108231520A
公开(公告)日
:
2018-06-29
发明(设计)人
:
罗浩
张毅先
任思雨
苏君海
李建华
申请人
:
申请人地址
:
516029 广东省惠州市仲恺高新区新华大道南1号
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
:
叶剑
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-07-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20171229
2018-06-29
公开
公开
2020-02-14
授权
授权
共 50 条
[1]
基板干法刻蚀装置
[P].
罗浩
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罗浩
;
张毅先
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张毅先
;
任思雨
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任思雨
;
苏君海
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苏君海
;
李建华
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李建华
.
中国专利
:CN108063082A
,2018-05-22
[2]
干法刻蚀装置
[P].
杨宏超
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杨宏超
;
金一诺
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金一诺
;
张怀东
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张怀东
;
王坚
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王坚
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN105304443A
,2016-02-03
[3]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
高鹏飞
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高鹏飞
;
丁玎
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丁玎
.
中国专利
:CN109755159B
,2019-05-14
[4]
干法刻蚀装置
[P].
高国浩
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高国浩
.
中国专利
:CN218123350U
,2022-12-23
[5]
干法刻蚀装置
[P].
单静静
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单静静
;
完颜俊雄
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完颜俊雄
;
豆海清
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豆海清
.
中国专利
:CN218101166U
,2022-12-20
[6]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
李国强
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机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
李国强
;
衣新燕
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机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
衣新燕
.
中国专利
:CN117096067B
,2024-03-01
[7]
干法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘耀
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刘耀
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陈曦
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陈曦
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李梁梁
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李梁梁
;
白金超
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白金超
;
刘晓伟
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刘晓伟
.
中国专利
:CN103996621A
,2014-08-20
[8]
用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀设备
[P].
廖鹏宇
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廖鹏宇
;
蒋冬华
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蒋冬华
;
赵吾阳
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赵吾阳
;
姜龙
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姜龙
;
宋亮
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宋亮
;
谭超
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谭超
;
彭于航
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彭于航
;
谢贤虹
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谢贤虹
.
中国专利
:CN106935463A
,2017-07-07
[9]
干法刻蚀方法
[P].
汪新学
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汪新学
;
王伟军
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王伟军
.
中国专利
:CN102254812A
,2011-11-23
[10]
干法刻蚀设备
[P].
张正洋
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张正洋
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邓泽新
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邓泽新
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黄伟东
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黄伟东
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李建华
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李建华
.
中国专利
:CN204834563U
,2015-12-02
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