FZ单晶硅抛光片加工清洗装置及清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411243929.7

申请日：

2024-09-05

公开(公告)号：

CN118950587A

公开(公告)日：

2024-11-15

发明(设计)人：

陈凯

申请人：

上海中欣晶圆半导体科技有限公司

申请人地址：

201900 上海市宝山区山连路181号

IPC主分类号：

B08B3/12

IPC分类号：

B08B3/08 B08B11/02 H01L21/67 H01L21/687

代理机构：

上海港慧专利代理事务所(普通合伙) 31402

代理人：

郭嘉莹

法律状态：

公开

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-15	公开	公开
2024-12-03	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B08B 3/12申请日:20240905

共 50 条

[1]

一种单晶硅抛光片的清洗方法 [P].

闫志文 ;

王刚 ;

刘园 ;

王广勇 ;

石明 ;

徐荣清 ;

吕莹 ;

张晋会 .

中国专利 :CN107195537A ,2017-09-22

[2]

单晶硅衬底双面抛光片 [P].

喻勤建 ;

邓建伟 ;

周理明 .

中国专利 :CN2423655Y ,2001-03-14

[3]

一种硅抛光片清洗装置 [P].

王瑞斌 .

中国专利 :CN216460545U ,2022-05-10

[4]

一种单晶硅晶圆抛光片的清洗方法 [P].

罗翀 ;

徐荣清 ;

甄红昌 ;

王玮 ;

吉敏 .

中国专利 :CN102974565A ,2013-03-20

[5]

锗单晶抛光片的清洗方法 [P].

肖祥江 ;

李苏滨 ;

惠峰 ;

李雪峰 ;

柳廷龙 ;

李武芳 ;

周一 ;

杨海超 ;

侯振海 ;

囤国超 ;

田东 .

中国专利 :CN106057645A ,2016-10-26

[6]

单晶硅棒清洗装置 [P].

白林 ;

王新正 ;

陆沁 .

中国专利 :CN215613635U ,2022-01-25

[7]

一种抛光片加工用清洗装置 [P].

赵纪平 ;

方萌 ;

刘小祥 ;

方小明 .

中国专利 :CN214320977U ,2021-10-01

[8]

一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备 [P].

吴晓峰 ;

孙新利 ;

钱奥成 ;

申文婷 .

中国专利 :CN119303892B ,2025-04-08

[9]

一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备 [P].

吴晓峰 ;

孙新利 ;

钱奥成 ;

申文婷 .

中国专利 :CN119303892A ,2025-01-14

[10]

超薄锗单晶抛光片的清洗方法 [P].

韩家贤 ;

韦华 ;

王顺金 ;

吕春富 ;

赵兴凯 ;

杨春柳 ;

李国芳 .

中国专利 :CN115527835A ,2022-12-27

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