一种单晶硅晶圆抛光片的清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210534566.3

申请日：

2012-12-12

公开(公告)号：

CN102974565A

公开(公告)日：

2013-03-20

发明(设计)人：

罗翀徐荣清甄红昌王玮吉敏

申请人：

申请人地址：

300384 天津市西青区华苑产业园区（环外）海泰发展二路12号

IPC主分类号：

B08B304

IPC分类号：

B08B308 H01L2102

代理机构：

天津中环专利商标代理有限公司 12105

代理人：

王凤英

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-03-20	公开	公开
2013-04-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101438921065 IPC(主分类):B08B 3/04 专利申请号:2012105345663 申请日:20121212
2015-04-08	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101713310300 IPC(主分类):B08B 3/04 专利申请号:2012105345663 申请公布日:20130320

共 50 条

[1]

一种单晶硅抛光片的清洗方法 [P].

闫志文 ;

王刚 ;

刘园 ;

王广勇 ;

石明 ;

徐荣清 ;

吕莹 ;

张晋会 .

中国专利 :CN107195537A ,2017-09-22

[2]

一种减少单晶硅晶圆抛光片化学灼伤的有蜡抛光方法 [P].

吕莹 ;

魏艳军 ;

刘园 ;

张晋会 ;

李翔 .

中国专利 :CN103659468A ,2014-03-26

[3]

一种盛载单晶硅晶圆抛光片片盒的清洗工艺 [P].

刘琦 ;

齐钊 ;

李诺 ;

孙希凯 ;

吕莹 .

中国专利 :CN102974581A ,2013-03-20

[4]

单晶硅衬底双面抛光片 [P].

喻勤建 ;

邓建伟 ;

周理明 .

中国专利 :CN2423655Y ,2001-03-14

[5]

FZ单晶硅抛光片加工清洗装置及清洗方法 [P].

陈凯 .

中国专利 :CN118950587A ,2024-11-15

[6]

一种改善表面颗粒的重掺砷单晶硅晶圆抛光片的抛光工艺 [P].

孙晨光 ;

曲涛 ;

垢建秋 ;

韩贵祥 ;

张俊生 .

中国专利 :CN103009234A ,2013-04-03

[7]

一种提高单晶硅晶圆抛光片保质期的包装工艺 [P].

吕莹 ;

刘园 ;

齐钊 ;

李诺 ;

吉敏 .

中国专利 :CN102963622A ,2013-03-13

[8]

一种锗单晶抛光片的清洗方法 [P].

杨洪星 ;

陈晨 ;

赵权 ;

刘春香 ;

王云彪 ;

耿莉 .

中国专利 :CN104377119B ,2015-02-25

[9]

一种超高清洗能力的单晶硅晶圆片清洗方法 [P].

刘建伟 ;

黄建国 ;

孙希凯 ;

甄红昌 ;

张宇 .

中国专利 :CN103029026A ,2013-04-10

[10]

单晶硅晶圆的制造方法及单晶硅晶圆 [P].

曲伟峰 ;

井川静男 .

中国专利 :CN113906171A ,2022-01-07

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