一种喷淋机构及化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420616300.1

申请日：

2024-03-28

公开(公告)号：

CN222008178U

公开(公告)日：

2024-11-15

发明(设计)人：

傅林坚刘毅曹建伟朱亮鲁冲昊朱亿江

申请人：

浙江求是半导体设备有限公司

申请人地址：

311100 浙江省杭州市临平区临平街道顺达路500号1幢102室

IPC主分类号：

C30B25/14

IPC分类号：

C30B25/08 C30B25/16

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

杨杰

法律状态：

授权

国省代码：

浙江省杭州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-15	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备 [P].

王树林 ;

李鹏飞 ;

袁运辉 ;

李阳阳 .

中国专利 :CN223674734U ,2025-12-16

[2]

一种化学气相沉积设备及方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN116988049B ,2024-01-16

[3]

喷淋头及化学气相沉积设备 [P].

乔徽 .

中国专利 :CN203007411U ,2013-06-19

[4]

喷淋装置及化学气相沉积设备 [P].

栾振兴 ;

刘雷 .

中国专利 :CN220597631U ,2024-03-15

[5]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[6]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN222923231U ,2025-05-30

[7]

喷淋头及化学气相沉积设备 [P].

乔徽 .

中国专利 :CN103074605A ,2013-05-01

[8]

化学气相沉积设备的喷淋装置 [P].

甘志银 ;

刘胜 .

中国专利 :CN204570032U ,2015-08-19

[9]

一种气体喷淋头及化学气相沉积设备 [P].

姜勇 ;

王家毅 .

中国专利 :CN215976033U ,2022-03-08

[10]

一种化学气相沉积喷头及化学气相沉积设备 [P].

方鹏 .

中国专利 :CN223674737U ,2025-12-16

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