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套刻误差补偿方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202310436867.0
申请日：
2023-04-19
公开(公告)号：
CN118859632A
公开(公告)日：
2024-10-29
发明(设计)人：
刘巍巍 张阳
申请人：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址：
230601 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
H01L21/027 H01L23/544
代理机构：
代理人：
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
安徽省 宣城市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-11-15 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20230419
2025-09-26 授权 授权
2024-10-29 公开 公开
共 50 条
[1]
套刻误差补偿方法 [P]. 
刘巍巍 ;
张阳 .
中国专利 :CN118859632B ,2025-09-26
[2]
套刻误差补偿方法 [P]. 
黄仁洲 ;
陈航卫 .
中国专利 :CN118732405A ,2024-10-01
[3]
套刻误差补偿方法 [P]. 
黄仁洲 ;
陈航卫 .
中国专利 :CN118732405B ,2025-09-19
[4]
套刻误差补偿方法及光刻曝光方法 [P]. 
田范焕 ;
梁时元 ;
贺晓彬 ;
李亭亭 ;
杨涛 ;
刘金彪 .
中国专利 :CN114518693B ,2024-05-17
[5]
套刻误差补偿方法及光刻曝光方法 [P]. 
田范焕 ;
梁时元 ;
贺晓彬 ;
李亭亭 ;
杨涛 ;
刘金彪 .
中国专利 :CN114518693A ,2022-05-20
[6]
套刻误差补偿方法、装置和光刻机 [P]. 
芮定海 ;
张利斌 ;
韦亚一 ;
粟雅娟 .
中国专利 :CN120779680A ,2025-10-14
[7]
一种套刻误差补偿方法及系统 [P]. 
曾超 ;
王野 ;
杨尚勇 ;
王印勋 .
中国专利 :CN120595544A ,2025-09-05
[8]
一种套刻误差补偿方法及系统 [P]. 
曾超 ;
王野 ;
杨尚勇 ;
王印勋 .
中国专利 :CN120595544B ,2025-10-31
[9]
一种背面套刻精度验证及套刻误差补偿方法及系统 [P]. 
王金凤 ;
张光彩 .
中国专利 :CN119148478A ,2024-12-17
[10]
一种背面套刻精度验证及套刻误差补偿方法及系统 [P]. 
王金凤 ;
张光彩 .
中国专利 :CN119148478B ,2025-03-25
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