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一种电解质分析装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202420119964.7
申请日
:
2024-01-17
公开(公告)号
:
CN222144924U
公开(公告)日
:
2024-12-10
发明(设计)人
:
邹从杰
徐辉
王小龙
王建东
张子方
申请人
:
深圳市希莱恒医用电子有限公司
申请人地址
:
518000 广东省深圳市光明区光明街道东周社区双明大道315号易方大厦10层
IPC主分类号
:
G01N27/333
IPC分类号
:
代理机构
:
深圳市六加知识产权代理有限公司 44372
代理人
:
唐梦云
法律状态
:
授权
国省代码
:
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-10
授权
授权
共 50 条
[1]
电解质分析装置
[P].
孟祥平
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孟祥平
.
中国专利
:CN207215749U
,2018-04-10
[2]
一种电解质分析装置
[P].
胡礼仪
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胡礼仪
.
中国专利
:CN204630973U
,2015-09-09
[3]
一种电解质分析装置
[P].
宣晖
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宣晖
;
王鹏
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王鹏
;
文崔
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文崔
.
中国专利
:CN218331575U
,2023-01-17
[4]
电解质分析装置及样本分析仪
[P].
陈约适
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陈约适
;
张乐平
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张乐平
;
宋斌
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宋斌
.
中国专利
:CN216646333U
,2022-05-31
[5]
电解质分析装置
[P].
H·R·拉赫曼
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H·R·拉赫曼
;
三宅雅文
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三宅雅文
.
中国专利
:CN115053126A
,2022-09-13
[6]
电解质分析装置
[P].
熊谷孝宏
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
熊谷孝宏
;
宫川拓士
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
岩濑友一
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
岩濑友一
;
山本遇哲
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
山本遇哲
;
川原铁士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN115004020B
,2024-08-27
[7]
电解质分析装置
[P].
宫川拓士
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
原正辉
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
原正辉
;
川原铁士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN111954820B
,2024-08-20
[8]
电解质分析装置
[P].
原正辉
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
原正辉
;
宫川拓士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
川原铁士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN112654872B
,2024-07-02
[9]
电解质分析装置
[P].
宫川拓士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
渡边凉太
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
渡边凉太
;
岩濑友一
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
岩濑友一
;
熊谷孝宏
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
熊谷孝宏
;
三宅雅文
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
三宅雅文
.
日本专利
:CN115769081B
,2025-11-18
[10]
电解质分析装置
[P].
宫川拓士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
原正辉
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
原正辉
;
矶部夏美
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
矶部夏美
;
川原铁士
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN111954821B
,2024-08-20
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