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一种锑化镓单晶生长方法及锑化镓单晶生长装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411188566.1
申请日
:
2024-08-28
公开(公告)号
:
CN119082847A
公开(公告)日
:
2024-12-06
发明(设计)人
:
黄晟
黄立
何庆波
刘伟华
严冰
张晓星
申请人
:
武汉高芯科技有限公司
申请人地址
:
430205 湖北省武汉市东湖开发区黄龙山南路6号2号楼
IPC主分类号
:
C30B15/04
IPC分类号
:
C30B29/40
代理机构
:
北京汇泽知识产权代理有限公司 11228
代理人
:
刘思敏
法律状态
:
公开
国省代码
:
湖北省 武汉市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-06
公开
公开
2024-12-24
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C30B 15/04申请日:20240828
共 50 条
[1]
一种锑化镓单晶生长加热装置
[P].
张建平
论文数:
0
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机构:
青岛浩瀚全材半导体有限公司
青岛浩瀚全材半导体有限公司
张建平
;
石宗军
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机构:
青岛浩瀚全材半导体有限公司
青岛浩瀚全材半导体有限公司
石宗军
.
中国专利
:CN222139348U
,2024-12-10
[2]
锑化镓晶体的生长方法
[P].
狄聚青
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机构:
安徽光智科技有限公司
安徽光智科技有限公司
狄聚青
;
李镇宏
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机构:
安徽光智科技有限公司
安徽光智科技有限公司
李镇宏
.
中国专利
:CN117604611A
,2024-02-27
[3]
锑化镓晶体生长装置以及生长方法
[P].
狄聚青
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机构:
广东晶智光电科技有限公司
广东晶智光电科技有限公司
狄聚青
;
肖溢
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机构:
广东晶智光电科技有限公司
广东晶智光电科技有限公司
肖溢
;
李镇宏
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0
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0
机构:
广东晶智光电科技有限公司
广东晶智光电科技有限公司
李镇宏
.
中国专利
:CN119710895A
,2025-03-28
[4]
直拉法生长锑化镓单晶的方法和装置
[P].
莫培根
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莫培根
;
谈惠祖
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谈惠祖
;
杜立新
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杜立新
;
范向群
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范向群
;
吴巨
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吴巨
.
中国专利
:CN1070009A
,1993-03-17
[5]
一种四英寸锑化镓单晶生长炉
[P].
袁韶阳
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机构:
大庆溢泰半导体材料有限公司
大庆溢泰半导体材料有限公司
袁韶阳
;
于会永
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机构:
大庆溢泰半导体材料有限公司
大庆溢泰半导体材料有限公司
于会永
;
冯佳峰
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机构:
大庆溢泰半导体材料有限公司
大庆溢泰半导体材料有限公司
冯佳峰
;
赵春锋
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机构:
大庆溢泰半导体材料有限公司
大庆溢泰半导体材料有限公司
赵春锋
;
赵中阳
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机构:
大庆溢泰半导体材料有限公司
大庆溢泰半导体材料有限公司
赵中阳
.
中国专利
:CN117737825A
,2024-03-22
[6]
氧化镓单晶生长方法及单晶生长装置
[P].
裵示永
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机构:
韩国窑业技术院
韩国窑业技术院
裵示永
;
郑盛民
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机构:
韩国窑业技术院
韩国窑业技术院
郑盛民
;
辛胤沚
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机构:
韩国窑业技术院
韩国窑业技术院
辛胤沚
;
具泰勋
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韩国窑业技术院
韩国窑业技术院
具泰勋
;
申阿兰
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机构:
韩国窑业技术院
韩国窑业技术院
申阿兰
.
韩国专利
:CN119956489A
,2025-05-09
[7]
一种砷化镓单晶生长装置及生长方法
[P].
王金灵
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王金灵
;
周铁军
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周铁军
;
严卫东
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严卫东
;
马金峰
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0
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马金峰
.
中国专利
:CN110359095B
,2019-10-22
[8]
锑化铝单晶生长方法
[P].
范江涛
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机构:
中国科学院半导体研究所
中国科学院半导体研究所
范江涛
;
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机构:
卢伟
;
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机构:
沈桂英
;
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机构:
赵有文
;
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机构:
刘刚
;
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机构:
李晨慧
;
论文数:
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机构:
杨文文
;
论文数:
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机构:
吕鑫雨
;
论文数:
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机构:
摆易寒
.
中国专利
:CN120925063A
,2025-11-11
[9]
一种氧化镓单晶的生长装置及氧化镓单晶生长方法
[P].
刘进
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机构:
杭州镓仁半导体有限公司
杭州镓仁半导体有限公司
刘进
.
中国专利
:CN117626405A
,2024-03-01
[10]
氮化镓单晶生长方法
[P].
孟静
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孟静
.
中国专利
:CN108796611A
,2018-11-13
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