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薄膜強誘電体トランジスタの3次元NORメモリストリングアレイ[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240509426
申请日
:
2022-08-04
公开(公告)号
:
JP2024532161A
公开(公告)日
:
2024-09-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H10B51/30
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
薄膜強誘電体トランジスタの3次元NORメモリストリングアレイ[ja]
[P].
日本专利
:JP2025143338A
,2025-10-01
[2]
接合レス型強誘電体メモリトランジスタの3次元NORメモリストリングを備えるメモリ構造体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025505244A
,2025-02-21
[3]
3次元垂直NORフラッシュ薄膜トランジスタストリング[ja]
[P].
日本专利
:JP2019504479A
,2019-02-14
[4]
3次元垂直NORフラッシュ薄膜トランジスタストリング[ja]
[P].
日本专利
:JP2022163107A
,2022-10-25
[5]
薄膜トランジスタアレイ装置、薄膜トランジスタアレイ装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012039000A1
,2014-02-03
[6]
薄膜トランジスタアレイ装置、薄膜トランジスタアレイ装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012038999A1
,2014-02-03
[7]
3次元メモリデバイスのスルーアレイコンタクト(TAC)[ja]
[P].
日本专利
:JP2021520647A
,2021-08-19
[8]
薄膜トランジスタアレイ基板[ja]
[P].
日本专利
:JP2017531322A
,2017-10-19
[9]
薄膜トランジスタ、トランジスタアレイ基板およびトランジスタアレイ基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025535682A
,2025-10-28
[10]
薄膜トランジスタ用のハイブリッド誘電体材料[ja]
[P].
日本专利
:JP6258569B2
,2018-01-10
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