含阴离子多糖促进剂的高分子量GPAM

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380021321.7

申请日：

2023-02-10

公开(公告)号：

CN118922600A

公开(公告)日：

2024-11-08

发明(设计)人：

C·卢 J·陈

申请人：

凯米拉公司

申请人地址：

芬兰赫尔辛基

IPC主分类号：

D21H21/14

IPC分类号：

D21H17/37 D21H17/20 D21H17/34 D21H21/18

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

王世娜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-08	公开	公开
2025-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):D21H 21/14申请日:20230210

共 50 条

[1]

含阴离子聚合物促进剂的高分子量GPAM [P].

C·卢 ;

J·陈 ;

H·戈尔兹伯里 .

:CN118922601A ,2024-11-08

[2]

高分子量阴离子聚丙烯酰胺 [P].

塞德里克·法维罗 ;

约翰·基弗 ;

尼古拉斯·布瓦斯 ;

凌静 .

中国专利 :CN117946311A ,2024-04-30

[3]

高分子量阴离子聚丙烯酰胺制备方法 [P].

王洪运 .

中国专利 :CN1084339C ,1997-12-31

[4]

含两性离子单体的高分子量阳离子和阴离子聚合物 [P].

M·J·科菲 ;

S·T·戈沃尼 ;

A·J·贝加拉 ;

R·T·格雷 ;

P·G·默里 .

中国专利 :CN1314716C ,2005-04-06

[5]

高分子量阴离子型聚丙烯酰胺的制备 [P].

车吉泰 ;

季鸿渐 ;

苏守环 ;

潘振远 ;

王玉杰 .

中国专利 :CN1057059A ,1991-12-18

[6]

高分子量阳离子共聚物 [P].

R·迪英 ;

A·桑纳 ;

P·赫瑟尔 ;

K·塞茨 ;

S·克斯拉德 ;

H·－J·劳本黑梅尔 ;

V·谢尔曼 .

中国专利 :CN1330287C ,1999-03-10

[7]

一种制备高分子量阴离子聚丙烯酰胺的方法 [P].

杨淑玮 ;

黄方方 ;

刘彦婷 ;

曹琳 ;

沈寒晰 ;

习娟 ;

孟璐 .

中国专利 :CN119775487A ,2025-04-08

[8]

一种高分子量阴离子聚丙烯酰胺的制备方法 [P].

刘彭城 ;

陶阿晖 ;

陈建波 ;

张冉 ;

李大强 ;

王全飞 ;

汪艳 .

中国专利 :CN104371054A ,2015-02-25

[9]

高分子量阴离子型聚丙烯酰胺的制备方法 [P].

尹海滨 ;

崔祜徽 ;

孙艳霞 ;

程芹 ;

车吉泰 .

中国专利 :CN100413895C ,2006-03-15

[10]

超高分子量阴离子聚丙烯酰胺的制备方法 [P].

赵阳 ;

孙龙 .

中国专利 :CN1114628C ,2001-02-14

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