光学设备、用于测量光学元件的光学表面的实际倾斜的方法和光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380030164.6

申请日：

2023-03-22

公开(公告)号：

CN118946850A

公开(公告)日：

2024-11-12

发明(设计)人：

H·兹维克 T·哈特 M·希伦布兰德 S·里克特 R·阿梅林 F·哈克

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G02B26/08

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-12	公开	公开
2025-04-15	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20230322

共 50 条

[1]

光学元件和光学设备 [P].

平田浩二 ;

峰邑浩行 ;

安斋由美子 ;

西田哲也 ;

山本治朗 ;

小藤直行 ;

池田英博 ;

木村展之 .

中国专利 :CN104380154A ,2015-02-25

[2]

光学元件和光学设备 [P].

越智法彦 ;

石仓淳理 ;

山本修平 .

中国专利 :CN108931828A ,2018-12-04

[3]

光学设备和使用所述光学设备的光刻设备 [P].

乔·特兰乔 ;

威廉·皮尔斯·查宾 ;

瑞恩·理查德·韦斯特弗 ;

杰拉德·W·麦克杜姆 ;

爱德华·霍顿 .

中国专利 :CN115335774A ,2022-11-11

[4]

光学设备中的光学元件的温度测量 [P].

K·M·W·J·波斯 ;

约斯特·安德烈·克鲁格斯特 ;

A·阿南德 .

:CN117377912A ,2024-01-09

[5]

光学系统、光学设备和用于布置衍射光学元件的方法 [P].

藤本诚 .

中国专利 :CN102590914A ,2012-07-18

[6]

光学元件单元和光学设备 [P].

山崎敏宣 .

中国专利 :CN110873994A ,2020-03-10

[7]

光学玻璃、光学元件和光学设备 [P].

铃木健介 .

日本专利 :CN117510064A ,2024-02-06

[8]

光学元件制造方法、光学元件、光学设备和图像捕获设备 [P].

田中博幸 ;

宇久田秀雄 ;

米谷公一 .

中国专利 :CN113880461A ,2022-01-04

[9]

衍射光学元件及包含相同衍射光学元件的光学设备 [P].

杜春雷 ;

夏良平 .

中国专利 :CN109116455A ,2019-01-01

[10]

光学元件制造方法、光学元件、光学设备和图像捕获设备 [P].

田中博幸 ;

宇久田秀雄 ;

米谷公一 .

日本专利 :CN113880461B ,2024-01-12

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