反应副产物的去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411003334.4

申请日：

2024-07-24

公开(公告)号：

CN118919449A

公开(公告)日：

2024-11-08

发明(设计)人：

姚恒山沈子扬张路罗魁吕磊

申请人：

华虹半导体（无锡）有限公司

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01J37/32

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

戴广志

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省无锡市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-08	公开	公开
2024-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20240724

共 50 条

[1]

刻蚀工艺中去除反应副产物的方法 [P].

沈恺 ;

崔艳雷 ;

冯大贵 ;

余鹏 ;

孙建 ;

杨佳霖 ;

方安琪 ;

吕梅 .

中国专利 :CN118448254A ,2024-08-06

[2]

去除水中消毒副产物的方法 [P].

韩健健 ;

陈顺权 .

中国专利 :CN105858955A ,2016-08-17

[3]

低聚反应副产物的处理方法 [P].

白世元 ;

李政锡 ;

宋宗勳 ;

黃文燮 ;

朴根兌 .

韩国专利 :CN120303229A ,2025-07-11

[4]

去除金属副产物的方法及其真空系统 [P].

高京吾 ;

卢明根 .

中国专利 :CN104718309B ,2015-06-17

[5]

反应副产物捕集系统 [P].

赵宰孝 ;

李妍周 ;

元愚渊 ;

郑国一 .

韩国专利 :CN118815689A ,2024-10-22

[6]

反应室内副产物的处理方法 [P].

肖中强 .

中国专利 :CN102087958B ,2011-06-08

[7]

原位去除钯催化偶联反应中副产物的方法 [P].

宋卫国 ;

刘华 ;

曹昌燕 .

中国专利 :CN103193573A ,2013-07-10

[8]

去除水中消毒副产物的装置 [P].

韩健健 ;

陈顺权 .

中国专利 :CN205710257U ,2016-11-23

[9]

去除水中消毒副产物的装置 [P].

韩健健 ;

陈顺权 .

中国专利 :CN105859002B ,2016-08-17

[10]

抛光装置及抛光副产物的去除方法 [P].

陈枫 ;

黎铭琦 .

中国专利 :CN102806525B ,2012-12-05

← 1 2 3 4 5 →