ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン共触媒[ja]

被引：0

申请号：

JP20230502989

申请日：

2021-02-05

公开(公告)号：

JP2023541768A

公开(公告)日：

2023-10-04

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08F4/64

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン共触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2024506482A ,2024-02-14

[2]

ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン助触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2023537217A ,2023-08-31

[3]

フェニル−２−ヒドロキシ−アセチルアミノ−２−メチル−フェニル化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2021517555A ,2021-07-26

[4]

拘束幾何プロ触媒のためのヒドロカルビル変性メチルアルミノキサン助触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2023534659A ,2023-08-10

[5]

フェニル－２－ヒドロキシ－アセチルアミノ－２－メチル－フェニル化合物[ja] [P].

日本专利 :JP7331212B2 ,2023-08-22

[6]

フェニル－２－ヒドロキシ－アセチルアミノ－２－メチル－フェニル化合物[ja] [P].

日本专利 :JP7110232B2 ,2022-08-01

[7]

フェニル－２－ヒドロキシ－アセチルアミノ－２－メチル－フェニル化合物[ja] [P].

MARTA MARIA CIFUENTES-GARCIA ;

MARIA CHRISTINA GARCIA-PAREDES .

日本专利 :JP2022141835A ,2022-09-29

[8]

新規なビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016002607A1 ,2017-04-27

[9]

４−ヒドロキシフェニルアルキルアミン誘導体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009078394A1 ,2011-04-28

[10]

フェノキシアルキルアミン化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6229896B2 ,2017-11-15

← 1 2 3 4 5 →