ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン助触媒[ja]

被引：0

申请号：

JP20230503046

申请日：

2021-02-05

公开(公告)号：

JP2023537217A

公开(公告)日：

2023-08-31

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IPC主分类号：

C08F4/64

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共 50 条

[1]

ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン共触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2024506482A ,2024-02-14

[2]

ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン共触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2023541768A ,2023-10-04

[3]

拘束幾何プロ触媒のためのヒドロカルビル変性メチルアルミノキサン助触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2023534659A ,2023-08-10

[4]

フェニル−２−ヒドロキシ−アセチルアミノ−２−メチル−フェニル化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2021517555A ,2021-07-26

[5]

フェニル－２－ヒドロキシ－アセチルアミノ－２－メチル－フェニル化合物[ja] [P].

日本专利 :JP7331212B2 ,2023-08-22

[6]

フェニル－２－ヒドロキシ－アセチルアミノ－２－メチル－フェニル化合物[ja] [P].

日本专利 :JP7110232B2 ,2022-08-01

[7]

フェニル－２－ヒドロキシ－アセチルアミノ－２－メチル－フェニル化合物[ja] [P].

MARTA MARIA CIFUENTES-GARCIA ;

MARIA CHRISTINA GARCIA-PAREDES .

日本专利 :JP2022141835A ,2022-09-29

[8]

新規なビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016002607A1 ,2017-04-27

[9]

４−ヒドロキシフェニルアルキルアミン誘導体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009078394A1 ,2011-04-28

[10]

フェノキシアルキルアミン化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6229896B2 ,2017-11-15

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