高周波デバイス用基板、及びその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220026305

申请日：

2022-02-24

公开(公告)号：

JP7605152B2

公开(公告)日：

2024-12-24

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/20

IPC分类号：

H01L21/02 H01L27/12 H01L29/16

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法律状态信息

共 50 条

[1]

高周波デバイス用基板およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7609154B2 ,2025-01-07

[2]

高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板[ja] [P].

日本专利 :JP6714884B2 ,2020-07-01

[3]

高周波デバイス用の基板を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021519537A ,2021-08-10

[4]

高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018051793A1 ,2019-06-24

[5]

高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板[ja] [P].

日本专利 :JP6860056B2 ,2021-04-14

[6]

高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板[ja] [P].

ONO KAZUTAKA ;

NOMURA SHUHEI ;

KIDERA NOBUTAKA ;

TAKESHITA NOBUHIKO .

日本专利 :JP2025124861A ,2025-08-26

[7]

高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板[ja] [P].

ONO KAZUTAKA ;

NOMURA SHUHEI ;

KIDERA NOBUTAKA ;

TAKESHITA NOBUHIKO .

日本专利 :JP2022159373A ,2022-10-17

[8]

高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板[ja] [P].

日本专利 :JP7694644B2 ,2025-06-18

[9]

高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板[ja] [P].

日本专利 :JP7120341B2 ,2022-08-17

[10]

高周波用基板およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007069491A1 ,2009-05-21

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