一种蚀刻添加剂及其制备方法与蚀刻液及应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411270040.8

申请日：

2024-09-10

公开(公告)号：

CN119287370A

公开(公告)日：

2025-01-10

发明(设计)人：

谢锡忠梁涛金依君梁益

申请人：

珠海市板明科技有限公司

申请人地址：

519000 广东省珠海市高栏港经济区永新路10号二期厂房

IPC主分类号：

C23F1/16

IPC分类号：

代理机构：

深圳中细软知识产权代理有限公司 44528

代理人：

李超

法律状态：

公开

国省代码：

江西省吉安市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-10	公开	公开
2025-06-27	授权	授权
2025-01-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23F 1/16申请日:20240910

共 50 条

[1]

一种蚀刻添加剂及其制备方法与蚀刻液及应用 [P].

谢锡忠 ;

梁涛 ;

金依君 ;

梁益 .

中国专利 :CN119287370B ,2025-06-27

[2]

蚀刻液添加剂、蚀刻液及其应用、蚀刻工艺 [P].

郁操 ;

董刚强 .

中国专利 :CN115161641B ,2024-06-11

[3]

一种多晶硅蚀刻液添加剂及其应用 [P].

张红利 ;

王池 ;

凡宝安 ;

罗江 ;

李锋清 ;

袁震芹 .

中国专利 :CN109554762A ,2019-04-02

[4]

添加剂、添加剂分散液、蚀刻原料单元、添加剂供给装置、蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

村上友佳子 ;

平川雅章 ;

植松育生 .

中国专利 :CN110904503B ,2020-03-24

[5]

一种酸性蚀刻液添加剂及酸性蚀刻液 [P].

侯延辉 .

中国专利 :CN107747094B ,2018-03-02

[6]

一种精密线路蚀刻液添加剂及其应用 [P].

杨红 ;

葛英霞 ;

万涛明 ;

刘晓芳 .

中国专利 :CN115011964A ,2022-09-06

[7]

铜蚀刻液用添加剂 [P].

H·W·理查森 ;

C·F·佐当 .

中国专利 :CN1130408A ,1996-09-04

[8]

蚀刻液及其制备方法与应用 [P].

周志强 ;

胡秋雨 ;

袁明军 ;

李治文 ;

钟上彪 ;

刘彬云 .

中国专利 :CN114752939A ,2022-07-15

[9]

蚀刻液及其制备方法与应用 [P].

周志强 ;

胡秋雨 ;

袁明军 ;

李治文 ;

钟上彪 ;

刘彬云 .

中国专利 :CN114752939B ,2024-07-16

[10]

一种石英晶片蚀刻添加剂及其制备方法 [P].

冉有仁 ;

刘三川 .

中国专利 :CN113621375B ,2021-11-09

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