用于结构和相关联设备的检查方法和设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201980068958.5
申请日
2019-09-25
公开(公告)号
CN112867970B
公开(公告)日
2024-12-27
发明(设计)人
E·巴德尔 S·夏卡瓦米拉特 G·米瑟立 A·维尔马
申请人
ASML荷兰有限公司
申请人地址
荷兰维德霍温
IPC主分类号
G03F7/20
IPC分类号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
王益
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
用于结构和相关联设备的检查方法和设备 [P]. 
E·巴德尔 ;
S·夏卡瓦米拉特 ;
G·米瑟立 ;
A·维尔马 .
中国专利 :CN112867970A ,2021-05-28
[2]
用于控制制造设备和相关联设备的方法 [P]. 
W·西蒙斯 ;
D·M·斯劳特布姆 ;
E·德柯尔特 .
:CN112352201B ,2024-06-28
[3]
用于控制制造设备和相关联设备的方法 [P]. 
W·西蒙斯 ;
D·M·斯劳特布姆 ;
E·德柯尔特 .
中国专利 :CN112352201A ,2021-02-09
[4]
量测方法和相关联设备 [P]. 
G·博特加尔 ;
曹鑫罡 ;
F·加西亚·弗洛雷斯 ;
T·T·T·乌 ;
曾嘉铧 .
:CN118946855A ,2024-11-12
[5]
使用过滤和相关联设备控制光遗传设备的方法 [P]. 
F·加卢比 ;
C·加勒 .
法国专利 :CN113747940B ,2025-04-15
[6]
使用过滤和相关联设备控制光遗传设备的方法 [P]. 
F·加卢比 ;
C·加勒 .
中国专利 :CN113747940A ,2021-12-03
[7]
眼科手术中的放大及相关联设备、系统和方法 [P]. 
任虎刚 ;
俞凌峰 .
中国专利 :CN107111122A ,2017-08-29
[8]
用于表征光子器件的方法及相关联设备 [P]. 
P·勒迈特瑞 ;
J-F·卡彭蒂尔 .
中国专利 :CN107666350A ,2018-02-06
[9]
光刻过程的子场控制和相关联设备 [P]. 
J·F·F·克林哈梅 ;
V·阿尔蒂尼 ;
H·E·卡图 ;
T·W·M·提森 .
:CN114667488B ,2025-07-22
[10]
光刻过程的子场控制和相关联设备 [P]. 
J·F·F·克林哈梅 ;
V·阿尔蒂尼 ;
H·E·卡图 ;
T·W·M·提森 .
中国专利 :CN114667488A ,2022-06-24