晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411538293.9

申请日：

2024-10-31

公开(公告)号：

CN119188589A

公开(公告)日：

2024-12-27

发明(设计)人：

路新春赵德文邓雯心靳富

申请人：

华海清科股份有限公司

申请人地址：

300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号

IPC主分类号：

B24B37/04

IPC分类号：

B24B41/00 B24B49/16 B24B51/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

天津市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-27	公开	公开
2025-09-19	授权	授权
2025-01-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/04申请日:20241031

共 50 条

[1]

晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质 [P].

路新春 ;

赵德文 ;

邓雯心 ;

靳富 .

中国专利 :CN119188589B ,2025-09-19

[2]

晶圆抛光液、晶圆抛光方法和晶圆抛光装置 [P].

易德福 ;

丁勇 ;

吴城 .

中国专利 :CN118496766A ,2024-08-16

[3]

用于晶圆抛光的承载头、抛光方法和抛光设备 [P].

孟松林 ;

王宇 .

中国专利 :CN118927139A ,2024-11-12

[4]

抛光装置、抛光方法和晶圆 [P].

罗朝阳 ;

马乾志 ;

张雨杭 ;

张奇 ;

马坤 ;

杨越皓 ;

邓厚军 ;

杜桂军 .

中国专利 :CN119057676A ,2024-12-03

[5]

晶圆抛光装置、晶圆抛光系统以及晶圆抛光方法 [P].

王同庆 ;

王春龙 ;

张美洁 .

中国专利 :CN117464552A ,2024-01-30

[6]

晶圆抛光设备 [P].

时岱 ;

吴楠 ;

杨军 ;

包斌 .

中国专利 :CN215547738U ,2022-01-18

[7]

晶圆抛光设备 [P].

汪海亮 ;

刘路 .

中国专利 :CN221936399U ,2024-11-01

[8]

晶圆抛光设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN221640511U ,2024-09-03

[9]

边缘抛光头、晶圆边缘抛光装置和晶圆边缘抛光方法 [P].

梅晓熙 ;

张世凯 ;

常福佳 .

美国专利 :CN119820448A ,2025-04-15

[10]

晶圆抛光设备 [P].

孟晓云 ;

周庆亚 ;

张晓阳 ;

贾若雨 ;

白琨 ;

李嘉浪 ;

吴燕林 .

中国专利 :CN222537291U ,2025-02-28

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