X射线分析装置以及X射线分析方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110089055.4

申请日：

2021-01-22

公开(公告)号：

CN113804713B

公开(公告)日：

2024-12-24

发明(设计)人：

佐藤贤治

申请人：

株式会社岛津制作所

申请人地址：

日本国京都府

IPC主分类号：

G01N23/223

IPC分类号：

代理机构：

上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291

代理人：

杨楷;毛立群

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-24	授权	授权

共 50 条

[1]

X射线分析装置以及X射线分析方法 [P].

佐藤贤治 .

中国专利 :CN113804713A ,2021-12-17

[2]

X射线分析装置以及X射线分析方法 [P].

原田大辅 ;

欅泰行 .

中国专利 :CN115015296A ,2022-09-06

[3]

X射线分析装置以及X射线分析方法 [P].

原田大辅 ;

欅泰行 .

日本专利 :CN115015296B ,2025-10-17

[4]

X射线分析装置和X射线分析方法 [P].

唐·萨基特 .

中国专利 :CN102854209B ,2013-01-02

[5]

X射线分析装置和X射线分析方法 [P].

高桥春男 .

日本专利 :CN117705847A ,2024-03-15

[6]

荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置 [P].

佐久田昌博 ;

坂井范昭 ;

长谷川清 .

中国专利 :CN103575757A ,2014-02-12

[7]

X射线分析系统和X射线分析方法 [P].

高桥秀之 .

日本专利 :CN112083024B ,2024-06-14

[8]

X射线分析系统和X射线分析方法 [P].

高桥秀之 .

中国专利 :CN112083024A ,2020-12-15

[9]

X射线分析装置 [P].

迫幸雄 ;

川久航介 .

中国专利 :CN104076050A ,2014-10-01

[10]

X射线分析装置 [P].

丸井隆雄 ;

伊藤武史 ;

中村健一郎 .

中国专利 :CN107957430A ,2018-04-24

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