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X射线分析装置和X射线分析方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210190016.4
申请日
:
2012-06-08
公开(公告)号
:
CN102854209B
公开(公告)日
:
2013-01-02
发明(设计)人
:
唐·萨基特
申请人
:
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
G01N23223
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-06-25
授权
授权
2013-01-02
公开
公开
2013-02-20
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101395929979 IPC(主分类):G01N 23/223 专利申请号:2012101900164 申请日:20120608
共 50 条
[1]
X射线分析装置和X射线分析方法
[P].
高桥春男
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
高桥春男
.
日本专利
:CN117705847A
,2024-03-15
[2]
X射线分析装置以及X射线分析方法
[P].
原田大辅
论文数:
0
引用数:
0
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0
原田大辅
;
欅泰行
论文数:
0
引用数:
0
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0
欅泰行
.
中国专利
:CN115015296A
,2022-09-06
[3]
X射线分析装置以及X射线分析方法
[P].
原田大辅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
原田大辅
;
欅泰行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
欅泰行
.
日本专利
:CN115015296B
,2025-10-17
[4]
X射线分析装置以及X射线分析方法
[P].
佐藤贤治
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐藤贤治
.
中国专利
:CN113804713A
,2021-12-17
[5]
X射线分析装置以及X射线分析方法
[P].
佐藤贤治
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
佐藤贤治
.
日本专利
:CN113804713B
,2024-12-24
[6]
荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置
[P].
佐久田昌博
论文数:
0
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佐久田昌博
;
坂井范昭
论文数:
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坂井范昭
;
长谷川清
论文数:
0
引用数:
0
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0
长谷川清
.
中国专利
:CN103575757A
,2014-02-12
[7]
X射线分析装置和方法
[P].
D·贝克尔斯
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0
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0
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0
机构:
马尔文帕纳科公司
马尔文帕纳科公司
D·贝克尔斯
;
德米特里·马柳京
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0
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0
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0
机构:
马尔文帕纳科公司
马尔文帕纳科公司
德米特里·马柳京
;
亚历山大·哈尔陈科
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
马尔文帕纳科公司
马尔文帕纳科公司
亚历山大·哈尔陈科
.
:CN118588518A
,2024-09-03
[8]
X射线管和X射线分析装置
[P].
的场吉毅
论文数:
0
引用数:
0
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的场吉毅
.
中国专利
:CN101236876A
,2008-08-06
[9]
X射线分析设备和X射线分析方法
[P].
深井隆行
论文数:
0
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0
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深井隆行
;
的场吉毅
论文数:
0
引用数:
0
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的场吉毅
;
长谷川清
论文数:
0
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0
长谷川清
.
中国专利
:CN101231256B
,2008-07-30
[10]
X射线分析系统和X射线分析方法
[P].
高桥秀之
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
高桥秀之
.
日本专利
:CN112083024B
,2024-06-14
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