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套刻误差标记图形及形成方法、测量方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411604225.8
申请日：
2024-11-12
公开(公告)号：
CN119126511A
公开(公告)日：
2024-12-13
发明(设计)人：
韦斌
张业利
申请人：
杭州积海半导体有限公司
申请人地址：
311225 浙江省杭州市钱塘新区义蓬街道江东大道3899号709-7号
IPC主分类号：
G03F9/00
IPC分类号：
代理机构：
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人：
赵素香
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-12-31 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 9/00申请日:20241112 |
| 2024-12-13 | 公开 | 公开 |
| 2025-01-28 | 授权 | 授权 |