親水性量子ドットの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20230099851
申请日
2023-06-19
公开(公告)号
JP2025000159A
公开(公告)日
2025-01-07
发明(设计)人
NOJIMA YOSHIHIRO AOKI SHINJI TOBISHIMA KAZUYA
申请人
SHINETSU CHEMICAL CO
申请人地址
IPC主分类号
C09K11/08
IPC分类号
B82Y20/00 B82Y40/00 C09K11/56 C09K11/70 C09K11/88
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
InP量子ドットの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019188679A1 ,2021-04-22
[2]
量子ドット及び、その製造方法[ja] [P]. 
IIDA KAZUNORI ;
TSUTSUMI EMI ;
OGURA YUKO ;
TANAKA MASANORI ;
NIKATA SOICHIRO ;
TAKAMIZUMA YUKA .
日本专利 :JP2024016089A ,2024-02-06
[3]
半導体量子ドットの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018056114A1 ,2019-03-22
[4]
[5]
親水性単量体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008047812A1 ,2010-02-25
[8]
ペロブスカイト量子ドット複合体、ペロブスカイト量子ドット複合体の製造方法、インク、及び、ペロブスカイト量子ドット膜の製造方法[ja] [P]. 
ASAKURA SATOSHI ;
SATO TAKAHIRO ;
MASUHARA HARUHITO ;
SATO RYOTA ;
OSHITA NAOAKI ;
MORIKAWA YUSAKU .
日本专利 :JP2024031023A ,2024-03-07
[9]
インクジェットヘッドの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009147970A1 ,2011-10-27
[10]
量子ドット及びその作製方法と応用[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021506723A ,2021-02-22