蒸镀源和蒸镀装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411514174.X

申请日：

2024-10-28

公开(公告)号：

CN119307862A

公开(公告)日：

2025-01-14

发明(设计)人：

沈阔刘佳宁

申请人：

京东方科技集团股份有限公司

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

代理机构：

北京安信方达知识产权代理有限公司 11262

代理人：

解婷婷;曲鹏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

北京市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/24申请日:20241028
2025-01-14	公开	公开

共 50 条

[1]

蒸镀源和蒸镀装置 [P].

黄俊淞 ;

叶岚凯 .

中国专利 :CN104404451A ,2015-03-11

[2]

蒸镀源和蒸镀装置 [P].

刘浩 ;

李彦松 ;

白珊珊 ;

关新兴 ;

曾琪皓 ;

沈阔 ;

刘华猛 ;

刘佳宁 .

中国专利 :CN116005114B ,2024-07-23

[3]

蒸镀源、蒸镀装置 [P].

刘晓云 .

中国专利 :CN109023260A ,2018-12-18

[4]

蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴 [P].

塩野忠久 ;

长田佑介 ;

金子滉明 ;

若林雅 ;

铃木裕二 .

中国专利 :CN113373411A ,2021-09-10

[5]

蒸镀源及蒸镀装置 [P].

马昆松 ;

梁作 ;

任虎鸣 .

中国专利 :CN221566290U ,2024-08-20

[6]

蒸镀源及蒸镀装置 [P].

沈文涛 ;

高超飞 ;

葛晶涛 ;

刘旭亮 ;

张明照 .

中国专利 :CN209722279U ,2019-12-03

[7]

蒸镀源以及蒸镀装置 [P].

藤井严 ;

菊地诚 .

中国专利 :CN113039306A ,2021-06-25

[8]

蒸镀源及蒸镀装置 [P].

邓博为 .

中国专利 :CN220468111U ,2024-02-09

[9]

蒸镀源及蒸镀装置 [P].

王宇钊 ;

李彦松 ;

文官印 ;

刘华猛 .

中国专利 :CN118773551A ,2024-10-15

[10]

蒸镀源组件、蒸镀装置及蒸镀方法 [P].

高薇 ;

董圣之 ;

邹德月 ;

陈晓敏 .

中国专利 :CN118932296A ,2024-11-12

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