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用于生产放射性同位素的靶辐照系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980051636.X
申请日：
2019-07-15
公开(公告)号：
CN112534517B
公开(公告)日：
2025-01-17
发明(设计)人：
B.D.费希尔 T.G.昂德沃特
申请人：
BWXT同位素技术集团有限公司
申请人地址：
美国弗吉尼亚州
IPC主分类号：
G21C19/00
IPC分类号：
G21C19/32
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王增强
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-01-17 授权 授权
共 50 条
[1]
用于生产放射性同位素的靶辐照系统 [P]. 
B.D.费希尔 ;
T.G.昂德沃特 .
中国专利 :CN112534517A ,2021-03-19
[2]
产生放射性同位素的靶辐照系统 [P]. 
T.G.昂德沃特 ;
M.A.阿尔博伊诺 ;
B.D.费希尔 ;
A.朗 .
美国专利 :CN112789689B ,2024-04-09
[3]
产生放射性同位素的靶辐照系统 [P]. 
T.G.昂德沃特 ;
M.A.阿尔博伊诺 ;
B.D.费希尔 ;
A.朗 .
中国专利 :CN112789689A ,2021-05-11
[4]
用于生产放射性同位素的辐照靶 [P]. 
B.D.菲舍尔 ;
E.B.巴杰 ;
W.E.拉塞尔二世 .
中国专利 :CN110462750A ,2019-11-15
[5]
产生放射性同位素的气动靶辐照系统 [P]. 
T.G.昂德沃特 ;
M.A.阿尔博伊诺 ;
B.D.费希尔 ;
A.朗 .
美国专利 :CN112789688B ,2024-08-20
[6]
产生放射性同位素的气动靶辐照系统 [P]. 
T.G.昂德沃特 ;
M.A.阿尔博伊诺 ;
B.D.费希尔 ;
A.朗 .
中国专利 :CN112789688A ,2021-05-11
[7]
放射性同位素的生产 [P]. 
P·W·H·德贾格 ;
S·J·比杰尔斯马 ;
O·W·V·弗吉恩斯 ;
安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫 ;
N·坦凯特 ;
A·T·A·M·德克森 ;
J·J·L·H·维斯帕 ;
R·G·M·兰斯博根 ;
A·A·A·卡斯特利根 .
中国专利 :CN114360759A ,2022-04-15
[8]
放射性同位素的生产 [P]. 
S·德纽特 ;
P·贾奎特 ;
F·斯蒂舍尔博 ;
D·梅尔腾斯 ;
W·雷森 ;
S·范登贝赫 ;
S·贝特朗 .
:CN120322832A ,2025-07-15
[9]
放射性同位素的生产 [P]. 
P·W·H·德贾格 ;
S·J·比杰尔斯马 ;
O·W·V·弗吉恩斯 ;
安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫 ;
N·坦凯特 ;
A·T·A·M·德克森 ;
J·J·L·H·维斯帕 ;
R·G·M·兰斯博根 ;
A·A·A·卡斯特利根 .
中国专利 :CN108701502A ,2018-10-23
[10]
生产放射性同位素的方法 [P]. 
罗志福 ;
吴宇轩 .
中国专利 :CN113470843A ,2021-10-01
12345