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产生放射性同位素的靶辐照系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980063118.X
申请日：
2019-08-23
公开(公告)号：
CN112789689B
公开(公告)日：
2024-04-09
发明(设计)人：
T.G.昂德沃特 M.A.阿尔博伊诺 B.D.费希尔 A.朗
申请人：
BWXT同位素技术集团有限公司
申请人地址：
美国弗吉尼亚州
IPC主分类号：
G21C23/00
IPC分类号：
G21G1/02
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
曲莹
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-04-09 授权 授权
共 50 条
[1]
产生放射性同位素的靶辐照系统 [P]. 
T.G.昂德沃特 ;
M.A.阿尔博伊诺 ;
B.D.费希尔 ;
A.朗 .
中国专利 :CN112789689A ,2021-05-11
[2]
产生放射性同位素的气动靶辐照系统 [P]. 
T.G.昂德沃特 ;
M.A.阿尔博伊诺 ;
B.D.费希尔 ;
A.朗 .
美国专利 :CN112789688B ,2024-08-20
[3]
产生放射性同位素的气动靶辐照系统 [P]. 
T.G.昂德沃特 ;
M.A.阿尔博伊诺 ;
B.D.费希尔 ;
A.朗 .
中国专利 :CN112789688A ,2021-05-11
[4]
用于生产放射性同位素的靶辐照系统 [P]. 
B.D.费希尔 ;
T.G.昂德沃特 .
中国专利 :CN112534517A ,2021-03-19
[5]
用于生产放射性同位素的靶辐照系统 [P]. 
B.D.费希尔 ;
T.G.昂德沃特 .
美国专利 :CN112534517B ,2025-01-17
[6]
用于产生放射性同位素的辐照靶及其制备方法 [P]. 
比阿特里斯·舒斯特 ;
沃尔夫冈·施密德 .
中国专利 :CN107210076A ,2017-09-26
[7]
用于产生放射性同位素的辐照靶及其制备方法 [P]. 
比阿特里斯·舒斯特 ;
罗伯特·巴瑟尔特 ;
卡尔·格斯维恩 .
中国专利 :CN107211522A ,2017-09-26
[8]
用于生产放射性同位素的辐照靶 [P]. 
B.D.菲舍尔 ;
E.B.巴杰 ;
W.E.拉塞尔二世 .
中国专利 :CN110462750A ,2019-11-15
[9]
用于产生放射性同位素的靶装置 [P]. 
J－C·阿米莉亚 ;
M·吉约特 .
中国专利 :CN1922695A ,2007-02-28
[10]
用于产生放射性同位素的气体靶系统 [P]. 
T·坎帕内拉 ;
A·佩雷兹德劳姆 .
中国专利 :CN110089201A ,2019-08-02
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