用于产生放射性同位素的靶装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580005296.5

申请日：

2005-02-18

公开(公告)号：

CN1922695A

公开(公告)日：

2007-02-28

发明(设计)人：

J－C·阿米莉亚 M·吉约特

申请人：

申请人地址：

比利时卢万－拉－讷韦

IPC主分类号：

G21G100

IPC分类号：

G21K508

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

赵培训

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-04-25	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-02-28	公开	公开
2012-12-26	授权	授权
2017-04-05	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101711958604 IPC(主分类):G21G 1/00 专利号:ZL2005800052965 申请日:20050218 授权公告日:20121226 终止日期:20160218

共 50 条

[1]

产生放射性同位素的靶辐照系统 [P].

T.G.昂德沃特 ;

M.A.阿尔博伊诺 ;

B.D.费希尔 ;

A.朗 .

美国专利 :CN112789689B ,2024-04-09

[2]

用于产生放射性同位素的气体靶系统 [P].

T·坎帕内拉 ;

A·佩雷兹德劳姆 .

中国专利 :CN110089201A ,2019-08-02

[3]

产生放射性同位素的靶辐照系统 [P].

T.G.昂德沃特 ;

M.A.阿尔博伊诺 ;

B.D.费希尔 ;

A.朗 .

中国专利 :CN112789689A ,2021-05-11

[4]

放射性同位素的制造方法、放射性同位素制造装置 [P].

石冈典子 ;

近藤浩夫 ;

渡边茂树 .

中国专利 :CN111164709A ,2020-05-15

[5]

放射性同位素产生器 [P].

P·S·维斯纳 ;

T·R·F·福雷斯特 .

中国专利 :CN1625784A ,2005-06-08

[6]

放射性同位素产生器 [P].

P·S·维斯纳 ;

T·R·F·福雷斯特 .

中国专利 :CN101290815A ,2008-10-22

[7]

产生放射性同位素的气动靶辐照系统 [P].

T.G.昂德沃特 ;

M.A.阿尔博伊诺 ;

B.D.费希尔 ;

A.朗 .

美国专利 :CN112789688B ,2024-08-20

[8]

放射性同位素制造装置及放射性同位素的制造方法 [P].

小笠原毅 ;

矢岛晓 ;

佐野正美 .

中国专利 :CN101681689B ,2010-03-24

[9]

产生放射性同位素的气动靶辐照系统 [P].

T.G.昂德沃特 ;

M.A.阿尔博伊诺 ;

B.D.费希尔 ;

A.朗 .

中国专利 :CN112789688A ,2021-05-11

[10]

用于生产放射性同位素的辐照靶 [P].

B.D.菲舍尔 ;

E.B.巴杰 ;

W.E.拉塞尔二世 .

中国专利 :CN110462750A ,2019-11-15

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