学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
SGLT阻害剤の合成に有用な中間体の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240542181
申请日
:
2023-01-12
公开(公告)号
:
JP2025503723A
公开(公告)日
:
2025-02-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07D307/79
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
SGLT阻害剤の合成に有用な中間体の製造[ja]
[P].
日本专利
:JP2021534174A
,2021-12-09
[2]
SGLT阻害剤の合成に有用な中間体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025178264A
,2025-12-05
[3]
SGLT阻害剤の合成に有用な中間体およびこれを用いたSGLT阻害剤の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023514754A
,2023-04-07
[4]
SGLT阻害剤中間体の合成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023541148A
,2023-09-28
[5]
BTK阻害剤及びその中間体の合成[ja]
[P].
日本专利
:JP2024521786A
,2024-06-04
[6]
SGLT−2の阻害物質として有用な化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6117186B2
,2017-04-19
[7]
TAFIaの阻害剤として有用な化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5706397B2
,2015-04-22
[8]
NEP阻害剤合成のための新規な方法および中間体[ja]
[P].
日本专利
:JP2019526554A
,2019-09-19
[9]
TYK2阻害剤の合成及びその中間体[ja]
[P].
日本专利
:JP2025510844A
,2025-04-15
[10]
SGLTの阻害物質として有用な化合物の調製方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6123111B2
,2017-05-10
←
1
2
3
4
5
→