一种抛光研磨转台及抛光研磨装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411745646.2

申请日：

2024-12-02

公开(公告)号：

CN119304774A

公开(公告)日：

2025-01-14

发明(设计)人：

张磊温鹏飞

申请人：

苏州芯轮半导体科技有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市吴中经济开发区吴中大道1183号30幢1楼

IPC主分类号：

B24B37/10

IPC分类号：

B24B37/34 B24B41/047 B24B47/12 B24B47/26

代理机构：

苏州德坤知识产权代理事务所(普通合伙) 32523

代理人：

查杰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/10申请日:20241202
2025-08-29	授权	授权
2025-01-14	公开	公开

共 50 条

[1]

一种抛光研磨转台及抛光研磨装置 [P].

张磊 ;

温鹏飞 .

中国专利 :CN119304774B ,2025-08-29

[2]

抛光研磨处理中研磨量的模拟方法及抛光研磨装置 [P].

山口都章 ;

小畠严贵 ;

水野稔夫 .

中国专利 :CN107107309A ,2017-08-29

[3]

抛光研磨装置及抛光研磨机台 [P].

杨瑞 ;

曹健州 ;

王伟风 ;

叶朝凤 ;

司彦龙 .

中国专利 :CN214603739U ,2021-11-05

[4]

一种研磨抛光机及研磨抛光装置 [P].

高令 ;

谭志强 ;

李叶明 ;

张红超 ;

黄俊达 ;

杨松凡 .

中国专利 :CN221871515U ,2024-10-22

[5]

研磨抛光装置和研磨抛光方法 [P].

毛柠 .

中国专利 :CN117943953A ,2024-04-30

[6]

抛光研磨装置 [P].

徐峥 ;

郑东州 .

中国专利 :CN308953000S ,2024-11-19

[7]

抛光研磨装置 [P].

徐枭宇 ;

徐峥 .

中国专利 :CN309281824S ,2025-05-09

[8]

一种曲面研磨抛光装置 [P].

梁瑞连 .

中国专利 :CN206383014U ,2017-08-08

[9]

抛光垫及研磨装置 [P].

高林 .

中国专利 :CN113084696B ,2021-07-09

[10]

一种研磨抛光装置 [P].

许存荣 .

中国专利 :CN206855220U ,2018-01-09

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